[发明专利]一种高地下水位、高基岩出露面的基坑支护体系及其工法

摘要

一种高地下水位、高基岩出露面的基坑支护体系及其工法，该支护体系包括内排的护坡桩和外排的止水帷幕，所述止水帷幕为组合止水帷幕，包括封闭护坡桩桩间空隙的一排高压止水桩，还包括封闭高压止水桩桩间空隙的外排袖阀注浆体和增强封闭的内排袖阀注浆体。该工法保证高压旋喷桩或高压摆喷桩的施工顺序始终先于内侧袖阀管注浆体和外侧袖阀管注浆体的施工。本发明结合了高压止水桩和袖阀管注浆的优点，多重组合帷幕体系达到较好的止水效果。特别在高地下水位、高基岩出露面层地质条件下优势明显，同时还可以加固基坑周边土体，是一种经济高效的支护体系。

主权项

一种高地下水位、高基岩出露面的基坑支护体系，包括内排的护坡桩（1）和外排的止水帷幕，其特征在于：所述止水帷幕为组合止水帷幕，包括封闭护坡桩桩间空隙的一排高压止水桩，还包括封闭高压止水桩桩间空隙的外排袖阀注浆体（4）和增强封闭的内排袖阀注浆体（3），所述高压止水桩封闭护坡桩桩间空隙的方式为桩间咬合直接封闭或者外侧间接封闭。