[发明专利]减少氟烯烃中的炔烃杂质的方法有效

专利信息
申请号: 201711164188.3 申请日: 2014-03-14
公开(公告)号: CN107879890B 公开(公告)日: 2022-01-18
发明(设计)人: M.J.纳帕;孙学慧;D.R.科尔宾;H.科普卡利;汪海有 申请(专利权)人: 得凯莫斯公司弗罗里达有限公司
主分类号: C07C17/25 分类号: C07C17/25;C07C17/20;C07C17/389;B01J29/06;C07C21/18;C07C19/10;C07C17/395;C07C17/087
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 石克虎;李炳爱
地址: 美国特*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及减少氟烯烃中的炔烃杂质的方法。具体地,本公开内容涉及方法,其包括:使包含至少一种氟烯烃和至少一种炔烃杂质的混合物与至少一种沸石接触,以降低该混合物中所述至少一种炔烃杂质的浓度;其中Rf为直链全氟化烷基,X为H、F、Cl、Br或I;和该至少一种沸石选自具有至少4埃和不大于约5埃的孔口的沸石、具有至少约5埃的孔口和不大于约2.6的桑德森电负性的沸石及其混合物;条件是该至少一种沸石不是沸石4A。本公开内容还涉及用于制备至少一种选自CF3CF=CH2、CF3CH=CHF及其混合物的氢四氟丙烯产物的方法;和涉及用于制备至少一种选自CF3CCl=CH2、CF3CH=CHCl及其混合物的氢氯三氟丙烯产物的方法。
搜索关键词: 减少 烯烃 中的 杂质 方法
【主权项】:
组合物,其包含:至少一种氟烯烃和至少一种RfC≡CX杂质的混合物,其中Rf是直链全氟化烷基,并且X是H、F、Cl、Br或I,其中所述至少一种RfC≡CX杂质以300ppm或更少的量存在于所述混合物中。
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