[发明专利]一种阵列天线方向图的测量方法、设备、系统有效

专利信息
申请号: 201711167182.1 申请日: 2017-11-21
公开(公告)号: CN109813968B 公开(公告)日: 2022-01-25
发明(设计)人: 漆一宏;于伟;沈鹏辉 申请(专利权)人: 深圳市通用测试系统有限公司
主分类号: G01R29/10 分类号: G01R29/10
代理公司: 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人: 黄琼
地址: 518101 广东省深圳市宝安区西*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种阵列天线方向图的测量方法,包括如下步骤:S1.获得阵列天线的阵元方向图以及阵元方向图中心的位置;S2.馈入端口激励I;S3.获得M个测量点的位置以及阵列天线在M个测量点处的电/磁场的测量数据E,所述测量数据E包含幅度和相位信息;S4.根据阵元方向图、阵元方向图中心的位置、测量点的位置以及测量数据E获得口径场激励I′;S5.根据口径场激励I′、阵元方向图、阵元方向图中心的位置以及目标位置获得阵列天线在目标位置处的方向图E′。本发明通过较少的测量数据,结合阵列天线已知的先验知识,能够快速、高效地获得阵列天线的方向图信息。
搜索关键词: 一种 阵列 天线方向图 测量方法 设备 系统
【主权项】:
1.一种阵列天线方向图的测量方法,其特征在于,所述阵列天线包括N个阵元,所述测量方法包括如下步骤:S1.获得所述阵列天线的阵元方向图以及阵元方向图中心的位置;S2.馈入端口激励I;S3.获得M个测量点的位置以及阵列天线在M个测量点处的电/磁场的测量数据E,所述测量数据E包含幅度和相位信息,M≥N/3;S4.根据所述阵元方向图、阵元方向图中心的位置、测量点的位置以及测量数据E获得口径场激励I′;S5.根据所述的口径场激励I′、阵元方向图、阵元方向图中心的位置以及目标位置获得所述阵列天线在目标位置处的方向图E′。
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