[发明专利]一种光起爆的一维平面爆轰波发生装置及方法有效

专利信息
申请号: 201711167604.5 申请日: 2017-11-21
公开(公告)号: CN107957211B 公开(公告)日: 2019-10-29
发明(设计)人: 裴明敬;徐海斌;王等旺;姚伟博;张德志;张景森;杨军;胡华权 申请(专利权)人: 西北核技术研究所
主分类号: F42B3/113 分类号: F42B3/113;F42B3/195
代理公司: 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 代理人: 汪海艳
地址: 710024 陕*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明涉及一种光起爆的平面波发生装置及实现方法,特别是一种光起爆的炸药平面波产生方法及装置,主要包括起爆光源与厚度均匀的光敏炸药涂层,起爆光源位于光敏炸药涂层的一侧;起爆光源照射光敏炸药涂层的整个上表面,光敏炸药涂层的整个上表面同步发生爆炸,产生平面爆轰波。用平面波发生器驱动飞片撞击靶板,可以在靶板内产生高应变率的冲击加载,是一种研究高应变率下靶板材料状态方程的重要加载技术。
搜索关键词: 一种 起爆 平面 爆轰波 发生 装置 方法
【主权项】:
1.一种光起爆的一维平面爆轰波发生装置,其特征在于:包括起爆光源与厚度均匀的光敏炸药涂层,所述起爆光源位于光敏炸药涂层的一侧;定义与起爆光源相对的光敏炸药涂层一侧的表面为光敏炸药的上表面,与该上表面相对的表面即为光敏炸药涂层的下表面;起爆光源照射光敏炸药涂层的整个上表面,光敏炸药涂层的整个上表面同步发生爆炸,产生平面爆轰波;还包括厚度均匀的主炸药层,所述光敏炸药涂层涂覆在主炸药层一侧的整个表面上;起爆光源照射光敏炸药涂层的整个上表面,光敏炸药涂层的上表面同步发生爆炸,光敏炸药产生的平面爆轰波作用于主炸药层,主炸药层与光敏炸药涂层接触的表面同步发生爆炸,输出平面爆轰波;还包括设置于光敏炸药涂层与主炸药层之间的隔膜,所述光敏炸药涂层涂覆于隔膜表面,所述隔膜的另一表面与主炸药层贴实;起爆光源同时照射光敏炸药涂层的整个上表面,光敏炸药涂层上表面同步发生爆炸,光敏炸药产生的平面爆轰波通过隔膜作用到主炸药层,主炸药层与隔膜接触的表面同步发生爆炸,输出平面爆轰波。
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