[发明专利]用于底层的芳香族树脂

摘要

芳香族树脂聚合物和含有其的组合物在半导体制造方法中适用作底层。

主权项

一种形成图案化层的方法，包含：(a)将组合物的层涂布在衬底上，所述组合物包含(i)聚亚芳基树脂，其包含以下作为聚合单元：一种或多种式(1)的第一单体其中每个Ar¹和Ar²独立地是C_6‑30芳基部分；每个R独立地选自H、C_6‑30芳基以及被取代的C_6‑30芳基；每个R¹独立地选自‑OH、C_1‑6羟基烷基、‑C(＝O)OR³、‑C(＝O)N(R⁴)₂、‑O‑C(＝O)R⁵、‑NR⁴C(＝O)R⁶、‑N(R⁴)₃⁺An^‑、‑NO₂；‑S(＝O)₂‑OR⁷、‑O‑S(＝O)₂‑R⁸、‑NR⁴‑S(＝O)₂‑R⁶以及S(＝O)₂‑N(R⁴)₂；每个R²独立地选自C_1‑10烷基、C_1‑10卤烷基、C_1‑10羟基烷基、C_1‑10烷氧基、CN、‑N(R⁴)₂以及卤基；R³＝H、C_1‑10烷基、C_1‑10羟基烷基、C_1‑10氨基烷基、C_6‑30芳基或M；每个R⁴独立地是H、C_6‑30芳基或C_1‑10烷基；每个R⁵独立地选自H、C_1‑10烷基、C_1‑10羟基烷基、C_6‑30芳基、‑O(C_1‑10烷基)、‑O(C_6‑10芳基)以及‑N(R⁴)₂；R⁶＝H、C_1‑10烷基、C_1‑10羟基烷基、C_6‑30芳基、‑O(C_1‑10烷基)或‑NH(C_1‑10烷基)；R⁷＝H、C_1‑10烷基、C_6‑30芳基或M；R⁸＝C_6‑30芳基、C_1‑10烷基以及卤基‑C_1‑10烷基；M＝碱金属离子、碱土金属离子或铵离子；An^‑是选自卤化物和C_1‑20羧酸根的阴离子；每个Y独立地是单化学键或选自以下的二价键联基团：‑O‑、‑S‑、‑S(＝O)‑、‑S(＝O)₂‑、‑C(＝O)‑、‑(C(R⁹)₂)_z‑、C_6‑30芳基以及‑(C(R⁹)₂)_z1‑(C_6‑30芳基)‑(C(R⁹)₂)_z2‑；每个R⁹独立地选自H、羟基、卤基、C_1‑10烷基、C_1‑10卤烷基以及C_6‑30芳基；a1＝0到3；a2＝0到3；b1＝1到4；b2＝0到2；c1＝0到2；c2＝0到2；a1+a2＝1到6；b1+b2＝2到6；c1+c2＝0到6；d＝0到2；z＝1到10；z1＝0到10；z2＝0到10；以及z1+z2＝1到10；和一种或多种包含两个或更多个环戊二烯酮部分的第二单体；和一种或多种有机溶剂；(b)去除有机溶剂以形成芳香族树脂层；(c)将光致抗蚀剂层涂布在所述芳香族树脂层上；(d)通过掩模使所述光致抗蚀剂层曝光于光化辐射；(e)使所述曝光的光致抗蚀剂层显影以形成抗蚀剂图案；以及(f)将所述图案转移到所述芳香族树脂层以暴露部分所述衬底。