[发明专利]用于DMD数字光刻系统的匀光元件及其设计方法有效
申请号: | 201711171865.4 | 申请日: | 2017-11-22 |
公开(公告)号: | CN107942520B | 公开(公告)日: | 2020-09-25 |
发明(设计)人: | 刘华;刘中元;李乾坤;李金环 | 申请(专利权)人: | 东北师范大学 |
主分类号: | G02B27/09 | 分类号: | G02B27/09;G03F7/20 |
代理公司: | 长春市吉利专利事务所(普通合伙) 22206 | 代理人: | 李晓莉 |
地址: | 130024 吉林*** | 国省代码: | 吉林;22 |
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摘要: | 用于DMD数字光刻系统的匀光元件及其设计方法,属于数字光刻技术领域,包括一个以上的子透镜,所述子透镜为长宽比为1:2的方形,子透镜的前表面为平面,后表面为自由曲面。本发明光能利用率高、匀光效果好、体积小、便于集成,对每一块子透镜单独设计,采用面积大小以及位置随机排列的方式,打破传统微透镜阵列的周期性,对相干光源的匀光效果大大提升。 | ||
搜索关键词: | 用于 dmd 数字 光刻 系统 元件 及其 设计 方法 | ||
【主权项】:
用于DMD数字光刻系统的匀光元件,其特征是:包括一个以上的子透镜,所述子透镜为长宽比为1:2的方形,子透镜的前表面为平面,后表面为自由曲面。
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