[发明专利]基于子阵划分的大规模相控阵差波束形成系统有效
申请号: | 201711174444.7 | 申请日: | 2017-11-22 |
公开(公告)号: | CN108051782B | 公开(公告)日: | 2021-06-15 |
发明(设计)人: | 冯林高;赵卫东;曾富华;徐茂格 | 申请(专利权)人: | 西南电子技术研究所(中国电子科技集团公司第十研究所) |
主分类号: | G01S7/02 | 分类号: | G01S7/02;G01S7/28;G01S7/36 |
代理公司: | 成飞(集团)公司专利中心 51121 | 代理人: | 郭纯武 |
地址: | 610036 四川*** | 国省代码: | 四川;51 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提出一种基于子阵划分的大规模相控阵差波束形成系统,旨在提供一种能够逼近阵元级差波束性能和单脉冲跟踪精度的差波束形成器。本发明通过下述技术方案予以实现:N×M个天线阵元对应串联射频处理模块、数字预处理模块、初级子阵内波束形成模块和次级差波束子阵跨区域拆分处理加权合成模块。设计的方位维和俯仰维子阵跨区域拆分处理单元以及分别级联的子阵对称取正方位差波束加权处理单元和子阵对称取负方位差波束加权处理单元、子阵对称取正俯仰差波束加权处理单元和子阵对称取负俯仰差波束加权处理单元、方位差和方位差波束合成单元,采用方位俯仰坐标轴划分区域对称取反方式进行加减处理得到方位差和俯仰差波束。 | ||
搜索关键词: | 基于 划分 大规模 相控阵 波束 形成 系统 | ||
【主权项】:
1.一种基于子阵划分的大规模相控阵差波束成形系统,包括:划分为M个子阵,每个子阵包含N个阵元,共有N×M个天线阵元的阵面,N×M个天线阵元对应串联射频处理模块、数字预处理模块、初级子阵内波束形成模块(1)和次级差波束子阵跨区域拆分处理加权合成模块(4),其特征在于:每个初级子阵内波束形成模块(1)由阵元幅度相位加权单元(2)串联子阵和波束合成单元(3)构成;次级差波束子阵跨区域拆分处理加权合成模块(4)包含分别与每个子阵和波束合成单元(3)相连的方位维子阵跨区域拆分处理单元(5)和俯仰维子阵跨区域拆分处理单元(6),与方位维子阵跨区域拆分处理单元(5)级联的子阵对称取正方位差波束加权处理单元(7)和子阵对称取负方位差波束加权处理单元(8),其中,与俯仰维子阵跨区域拆分处理单元(6)级联的子阵对称取正俯仰差波束加权处理单元(9)和子阵对称取负俯仰差波束加权处理单元(10),与子阵对称取正方位差波束加权处理单元(7)和子阵对称取负方位差波束加权处理单元(8)级联的方位差波束合成单元(11),与子阵对称取正俯仰差波束加权处理单元(9)和子阵对称取负俯仰差波束加权处理单元(10)级联的俯仰差波束合成单元(12);次级差波束子阵跨区域处理加权合成模块(4)的方位差波束合成单元(11)、俯仰差波束合成单元(12)完成对方位差和俯仰差波束的合成,最输出整个阵列天线的方位差波束和俯仰差波束。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西南电子技术研究所(中国电子科技集团公司第十研究所),未经西南电子技术研究所(中国电子科技集团公司第十研究所)许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201711174444.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种证件文档的自动处理方法和装置
- 下一篇:一种大功率照明设备及照明方法