[发明专利]一种延长ALD真空计使用寿命的方法

摘要

本发明涉及半导体制造技术领域，具体涉及一种延长原子层沉积设备真空计使用寿命的方法。本发明通过对ALD系统中的真空计电磁阀进行间断关闭的方法，在保证系统真空度的基础上，减少前驱体气体和反应副产物进入真空计内部，从而减少前驱体气体和反应副产物在真空计内部的附着，进一步可以延长ALD真空计使用寿命，同时，该方法是在未改变现ALD设备硬件的基础上进行了技术改进，减少设备的维护成本，技术含量高，应用前景良好。同时，该方法是在未改变现ALD设备硬件的基础上进行了技术改进，减少设备的维护成本，技术含量高，应用前景良好。

主权项

1.一种延长ALD真空计使用寿命的方法，其特征在于，所述方法为：对真空计电磁阀进行间断关闭控制；所述方法具体步骤包括：(1)在ALD未进行沉积工作时，将真空计电磁阀打开；(2)当ALD开始沉积工作时，利用真空计电磁阀检测系统的真空度；(3)开启真空计控制系统，当系统真空度达到设定的要求时，且数据稳定后，关闭电磁阀；(4)一段时间后短暂打开电磁阀以监测系统真空度，保证系统的真空度在设定值范围内；所述真空计的控制是用以PLC控制器为基础的，采用PID闭环控制方式进行，其中真空计电磁阀通过RS232或RS485串口与PLC控制器连接。