[发明专利]一种基于扩展有限元法的多缺陷群无损识别方法有效

专利信息
申请号: 201711179071.2 申请日: 2017-11-23
公开(公告)号: CN108053479B 公开(公告)日: 2020-05-12
发明(设计)人: 余天堂;马春平 申请(专利权)人: 河海大学
主分类号: G06T17/20 分类号: G06T17/20;G06T7/00;G06N3/00
代理公司: 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 代理人: 施昊
地址: 211100 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种基于扩展有限元法的多缺陷群无损识别方法,由正分析和反分析组成。扩展有限元法计算网格独立于结构内部的不连续面,因此缺陷几何变化时无需重构计算网格,故扩展有限元法用于正分析,以节约时间。反分析由三步组成:(i)以稀疏的测点确定包含缺陷群的子域,缩小搜索域;(ii)在子域内添加测点,对缺陷群进行逐个识别以确定群内缺陷的大致位置与大小;(iii)以第二部的结果作为初始解,加速收敛至缺陷的真实形态。本发明能在缺陷数量未知的前提下对多缺陷群进行准确识别,且能显著地减少测点用量和迭代次数。
搜索关键词: 一种 基于 扩展 有限元 缺陷 无损 识别 方法
【主权项】:
1.一种基于扩展有限元法的多缺陷群无损识别方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)在待测结构表面稀疏、均匀地布置m0个测点,施加荷载并收集测点响应下标i=1,2,…,m0;(2)建立待测结构的扩展有限元数值模型,施加与步骤(1)中相同的荷载,并将模型构造为以缺陷几何参数θ为输入、步骤(1)中测点位置处的响应为输出的系统;(3)设缺陷形式为圆形孔洞,上限为n1个,设置各圆形孔洞的缺陷几何参数的初始范围,并设定一阈值rt,当圆形孔洞半径大于rt时将该孔洞保留,反之则暂时剔除;(4)对目标函数进行优化,得到由若干候选缺陷组成的解(5)使用排队剔除法识别并移除解中不正确的候选缺陷;(6)通过层次聚类分析对剩余的候选缺陷进行分组,得到q0个候选缺陷群;(7)使用排队剔除法识别并移除不正确的候选缺陷群,得到q1个候选缺陷群;(8)对各个候选缺陷群,取其内所有缺陷的形心为中心,设边长为d1,共划出q1个正方形子域,设为候选缺陷新的搜索域,并设各正方形子域中的候选缺陷数量上限为n2个,当新的搜索域超出初始搜索域时,按初始搜索域截断;所述初始搜索域为待测结构表面;(9)向各正方形子域中均匀地布置madd个测点,则共有m0+madd×q1个测点;(10)重复步骤(4)至步骤(7),得到q2个候选缺陷群,对各个候选缺陷群,取其内所有缺陷的形心为中心,设边长为d2,共划出q2个正方形子域,设为候选缺陷新的搜索域,当新的搜索域超出初始搜索域时,按初始搜索域截断,并设各正方形子域中只有1个候选缺陷,且该候选缺陷位于正方形子域中心;(11)将缺陷形式改为椭圆孔洞,并将目标函数改写为O2(θ);(12)对目标函数O2(θ)进行优化,得到真实缺陷的近似解。
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