[发明专利]一种石墨烯片的制备方法在审
申请号: | 201711188232.4 | 申请日: | 2017-11-24 |
公开(公告)号: | CN109841349A | 公开(公告)日: | 2019-06-04 |
发明(设计)人: | 金闯 | 申请(专利权)人: | 太仓斯迪克新材料科技有限公司 |
主分类号: | H01B13/00 | 分类号: | H01B13/00;H01B13/30;H01B5/14;H01B1/24 |
代理公司: | 苏州凯谦巨邦专利代理事务所(普通合伙) 32303 | 代理人: | 丁剑 |
地址: | 215400 江苏省苏州*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种石墨烯片的制备方法,该方法包括:取一石墨粉10g置于230mL的硫酸中,在冰浴中缓慢加入30g的过锰酸钾(KMnO4)维持在20℃持续搅拌,溶解后在35℃下再持续搅拌40分钟,再缓慢加入460mL的去离子水,维持在35℃持续搅拌20分钟,反应结束后加入1.4L的去离子水及100mL的双氧水(H2O2),静置24小时候以5%的盐酸清洗,再于真空中干燥,而得到石墨氧化物粉体。接着,将该石墨氧化物粉体在真空接触高于1100℃的热源,则会剥离成石墨粉体材料,再经过1400下以5%氢气及95%氩气进行还原,以降低氧含量至1.5wt%以下,而得到本发明所采用的厚度小于10nm,且平面横向尺寸大于1um的片状石墨烯片。 | ||
搜索关键词: | 持续搅拌 石墨氧化物 去离子水 石墨烯片 粉体 制备 双氧水 片状石墨烯片 氩气 过锰酸钾 平面横向 石墨粉体 盐酸清洗 真空接触 氢气 石墨粉 热源 冰浴 硫酸 还原 溶解 剥离 | ||
【主权项】:
1.一种石墨烯片的制备方法,该方法包括:取一石墨粉10g置于230mL的硫酸中,在冰浴中缓慢加入30g的过锰酸钾(KMnO4)维持在20℃持续搅拌,溶解后在35℃下再持续搅拌40分钟,再缓慢加入460mL的去离子水,维持在35℃持续搅拌20分钟,反应结束后加入1.4L的去离子水及100mL的双氧水(H2O2),静置24小时候以5%的盐酸清洗,再于真空中干燥,而得到石墨氧化物粉体。接着,将该石墨氧化物粉体在真空接触高于1100℃的热源,则会剥离成石墨粉体材料,再经过1400下以5%氢气及95%氩气进行还原,以降低氧含量至1.5wt%以下,而得到本发明所采用的厚度小于10nm,且平面横向尺寸大于1um的片状石墨烯片。接着将石墨烯片,先放入N‑甲基吡咯烷酮(NMP)溶剂中,配置成浓度250ppm的悬浮溶液,该悬浮溶液的表面张力为40mJ/m2,表面电位为‑100.4mV,再加入聚(3,4‑亚乙二氧基噻吩)‑聚苯乙烯磺酸(PEDOT:PSS)作为透明导电粘合剂,再以行星式球磨机研磨2小时,制成石墨烯导电浆料。再将石墨烯导电浆料喷涂于透明基材,并烘干充分使N‑甲基吡咯烷酮(NMP)溶剂挥发后,形成石墨烯透明导电膜,再以四点探针量测片电阻值,以紫外光可见光分光光谱仪量测可见光透光度,再此以波长550nm作为可见光源。
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