[发明专利]一种耐高低温红外光学窗口片的制造方法

摘要

本发明涉及一种耐高低温红外光学窗口片的制造方法，包括基板、增透膜、耐高温膜和隔层；所述基板两侧分别沉积有增透膜，增透膜设置有4层，每层厚度为40nm，增透膜为HfON膜，其材料为乙烯基倍半硅氧烷；在所述基板处于常温的一侧还沉积有耐高温膜，耐高温膜材料为气态硅氧烷；包括：(1)清洗预处理：用去污剂清洗锡箔纸去油后用清水清洗，然后用酒精清洗并晾干；之后清洗基板，将基板放置在酒精中超声波清洗10min，然后用去离子水反复冲洗后吹干......等7个步骤；本发明采用双层镀膜结构，用隔层将窗口片及增透膜和耐高低温膜密封，使得窗口片与低温环境隔离，可避免窗口结霜，同时增透膜能增加透光率，增大成像的清晰度，进一步保证实验的成功率。

主权项

1.一种耐高低温红外光学窗口片的制造方法，包括：基板、增透膜、耐高温膜和隔层；所述基板两侧分别沉积有增透膜，增透膜设置有4层，每层厚度为30‑40nm，增透膜为HfON膜，其材料为乙烯基倍半硅氧烷；在所述基板处于常温的一侧还沉积有耐高温膜，耐高温膜有2层每层厚度为35‑50nm，耐高温膜材料为气态硅氧烷；所述耐高温膜、增透膜与基板的外侧周边上包绕有隔层，所述隔层为锡箔纸；其特征在于，包括如下步骤：(1)清洗预处理：用去污剂清洗锡箔纸去油后用清水清洗，然后用酒精清洗并晾干；之后清洗基板，将基板放置在酒精中超声波清洗10min，然后用去离子水反复冲洗后吹干；(2)将基片放置在PECVD设备射频阴极极板上，并将真空室真空抽至3×10^‑3Pa，接着向射频源充入氩气，同时射频源放电将氩气离子化形成氩离子，氩离子对准基片进行7‑15min轰击；(3)向真空室内充满乙烯基倍半硅氧烷，即在基片表面沉积形成增透膜；(4)将工件温度缓慢降至室温，降温速率为50‑70℃/h；(5)重复步骤(2)后向真空室内充满硅氧烷，即在基片表面沉积形成耐高低温膜；(6)将工件温度缓慢降至室温，降温速率为50‑60℃/h；(7)将镀膜冷却后的基片侧周边均匀涂抹固体胶，然后将第一层锡箔纸粘于基板、增透膜、耐高温膜上，然后在粘好的锡箔纸表面再次均匀涂抹固体胶，将第二层锡箔纸粘于第一次的锡箔纸上，然后风干固化1‑1.5天形成隔层，即得。