[发明专利]一种红外光学薄膜厚度控制方法在审
| 申请号： | 201711201124.6 | 申请日： | 2017-11-27 |
| 公开（公告）号： | CN109837521A | 公开（公告）日： | 2019-06-04 |
| 发明（设计）人： | 韩崇利 | 申请（专利权）人： | 成都中源红科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/54 | 分类号： | C23C14/54;C23C16/505;C23C16/52 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 610100 四川省成都市*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种红外光学薄膜厚度控制方法，在射频机的真空室气体入口处连通气体通道，并在气体通道上设置气体流量计，所述气体流量计可以测得通入气体体积总量，通过控制通入气体总量控制红外光学薄膜厚度，在真空室的基片放置处设置一个装有石英振片的探头，所述探头作为比较基片与红外光学滤光片基片放在一起，所述探头与晶振膜厚度控制仪相连，晶振膜厚度控制仪与射频源上方的挡板相连，推动挡板遮住射频源，停止沉积过程，从而达到控制红外光学薄膜厚度的目的；本发明设备简单；且膜层厚度控制精度高；同时与气体流量计配合使用，同时控制沉积所需的气体源，增加控制效率和效果。 | ||
| 搜索关键词： | 厚度控制 红外光学薄膜 气体流量计 探头 挡板 气体通道 射频源 真空室 晶振 沉积 红外光学滤光片 气体入口处 控制效率 气体总量 体积总量 放置处 气体源 膜层 射频 石英 遮住 振片 连通 | ||
【主权项】：
1.一种红外光学薄膜厚度控制方法，其特征在于，在射频机的真空室气体入口处连通气体通道，并在气体通道上设置气体流量计，所述气体流量计可以测得通入气体体积总量，通过控制通入气体总量控制红外光学薄膜厚度；在真空室的基片放置处设置一个装有石英振片的探头，所述探头作为比较基片与红外光学滤光片基片放在一起，所述探头与晶振膜厚度控制仪相连，晶振膜厚度控制仪与射频源上方的挡板相连，在射频沉积过程中，晶振膜厚度控制仪测量探头的震荡频率，当频率达到预设频率时，晶振膜厚度控制仪发出控制指令，推动挡板遮住射频源，停止沉积过程，从而达到控制红外光学薄膜厚度的目的。
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