[发明专利]一种耐磨增透的熔融石英窗口片的制造方法

摘要

本发明涉及一种耐磨增透的熔融石英窗口片的制造方法，包括：(1)以熔融石英为原料制造基板；(2)对基板的抛光面进行清洗预处理；(3)将基片放置在PECVD设备射频阴极极板上，并将真空室真空抽至3×10^‑3Pa，接着向射频源充入氩气，同时射频源放电将氩气离子化形成氩离子，氩离子对准基片进行7‑15min轰击(6)重复进行步骤(1)‑(3)，之后向真空室充满气体丁烷，完成基片表面沉积形成类金刚石膜；(7)将工件温度缓慢降至室温，降温速率为50℃/h即得；本发明的窗口片通过沉积类金刚石薄膜，保证了窗口片的硬度，使其不易被刮伤，同时通过沉积增透薄膜和防脏薄膜，增加了窗口片的透光率，同时使其表面不容易被沾染脏污。

主权项

1.一种耐磨增透的熔融石英窗口片的制造方法，包括：基板、类金刚石薄膜和增透薄膜；所述基板用熔融石英制成；所述基板依次沉积有增透薄膜和类金刚石薄膜；所述增透薄膜设置有6层，每层厚度为40nm，所述类金刚石薄膜有4层，每层厚度为40‑50nm；所述类金刚石薄膜沉积在基板两侧表面上，其特征在于，包括如下步骤：(1)以熔融石英为原料制造基板；(2)对基板的抛光面进行清洗预处理；(3)将基片放置在PECVD设备射频阴极极板上，并将真空室真空抽至3×10^‑3Pa，接着向射频源充入氩气，同时射频源放电将氩气离子化形成氩离子，氩离子对准基片进行7‑15min轰击；(4)向真空室内充满乙烯基倍半硅氧烷，即在基片表面沉积形成增透膜；(5)将工件温度缓慢降至室温，降温速率为50℃/h；(6)重复进行步骤(1)‑(3)，之后向真空室充满气体丁烷，完成基片表面沉积形成类金刚石膜；(7)将工件温度缓慢降至室温，降温速率为50℃/h即得。