[发明专利]无光罩激光直写曝光机在审

专利信息
申请号: 201711203316.0 申请日: 2017-11-27
公开(公告)号: CN108255021A 公开(公告)日: 2018-07-06
发明(设计)人: 洪国书;刘俊贤;张明宏;廖述政 申请(专利权)人: 旭东机械工业股份有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 贾磊;郭晓宇
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明关于一种无光罩激光直写曝光机,其包括可在一Y方向上相对位移的一载台及一激光曝光装置,且在相对位移过程中,该激光曝光装置可在一X方向上对该载台上的待曝光基板进行扫描,以在该待曝光基板上形成一潜像图案。该激光曝光装置具有一激光模块,其包括一线性激光光源、一穿透式扫描器、多个聚焦透镜以及修正像差的一补偿透镜。该线性激光光源的长度方向倾斜于X方向。该穿透式扫描器具有一多棱镜,其转轴平行于该线性激光光源的长度方向。该转动的过程中,该多棱镜的刻面允许每一激光光束穿透并在该待曝光基板上形成倾斜的一条状曝光光斑,且相邻的两激光光束所形成的曝光光斑在X方向上的投影存在部分重叠。
搜索关键词: 激光曝光装置 待曝光基板 激光光束 激光直写 曝光光斑 线性激光 相对位移 穿透式 多棱镜 曝光机 扫描器 无光 光源 补偿透镜 激光光源 激光模块 聚焦透镜 刻面 潜像 像差 载台 转轴 投影 转动 穿透 平行 扫描 图案 修正
【主权项】:
1.一种无光罩激光直写曝光机,其特征在于,包括:一载台,供承载一待曝光基板,该待曝光基板表面涂布有一感光层;及一激光曝光装置,可与该载台于一Y方向上相对位移,且在相对位移的过程中,该载台上的待曝光基板的感光层在一X方向上的位置点也能受到该激光曝光装置的选择性曝光,以构成一潜像图案,其中该激光曝光装置具有一第一激光模块,该第一激光模块包括:一线性激光光源,包括沿其长度方向间隔排列的多个激光二极管,用以输出相互平行的多道激光光束,其中该线性激光光源的长度方向倾斜于X方向;一穿透式扫描器,具有可转动的一多棱镜,该多棱镜的转轴平行于该线性激光光源的长度方向,且具有多个刻面,供该些激光光束射入;多个聚焦透镜,设于该线性激光光源与该多棱镜之间,用以对应地将该些激光二极管的激光光束聚焦至该待曝光基板;及至少一补偿透镜,设于该多棱镜与该待曝光基板之间,以修正该些聚焦透镜于聚焦时所造成的像差;其中,该穿透式扫描器的多棱镜的每一刻面皆能使每一条入射的激光光束产生偏折,并经该多棱镜的折射出光后在该待曝光基板的感光层形成一光点,且该多棱镜在转动过程中所形成的光点会在该待曝光基板的感光层的一斜向扫描路径上形成一条状曝光光斑,且相邻的两激光光束所形成的条状曝光光斑在X方向上的投影存在部分重叠。
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