[发明专利]一种提高电容匹配度的版图结构及其实现方法在审

专利信息
申请号: 201711206393.1 申请日: 2017-11-27
公开(公告)号: CN107919356A 公开(公告)日: 2018-04-17
发明(设计)人: 赵喆;李长猛;刘建;李雷;刘寅 申请(专利权)人: 北京华大九天软件有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;G06F17/50
代理公司: 北京德崇智捷知识产权代理有限公司11467 代理人: 王金双
地址: 100102 北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种提高电容匹配度的版图结构,包括,上、下金属层层次,以及中间金属层层次,所述上、下金属层层次与所述中间金属层层次的单一纵向金属,构成端口A;所述端口A的左右两侧中间金属层次的单一纵向金属,构成端口B;所述上、下金属层层次,以及所述中间金属层层次之间通过通孔进行连接。本发明还提供一种提高电容匹配度的版图实现方法,使用横向的侧壁电容,减小纵向电容,从而减小端口的寄生电容、增加单位电容之间的匹配精度。
搜索关键词: 一种 提高 电容 匹配 版图 结构 及其 实现 方法
【主权项】:
一种提高电容匹配度的版图结构,包括,上、下金属层层次,以及中间金属层层次,其特征在于,所述上、下金属层层次与所述中间金属层层次的单一纵向金属,构成端口A;所述端口A的左右两侧中间金属层次的单一纵向金属,构成端口B;所述上、下金属层层次,以及所述中间金属层层次之间通过通孔进行连接。
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