[发明专利]等离子体处理装置和喷头

摘要

本发明提供一种能够对基板实施均匀的等离子体处理的等离子体处理装置和喷头。从喷头(13)分割出的24个分割喷头(13a～13x)被划分为：由位于角部的分割喷头(13o、13p、13r、13s、13u、13v、13x和13m)构成的第一分割喷头组；由位于外周的分割喷头(13n、13q、13t、13w)构成的第二分割喷头组；由存在于中央附近的分割喷头(13a～13d)构成的第三分割喷头组；和由第三分割喷头组与第一分割喷头组或者第二分割喷头组夹着的分割喷头13e～13l构成的第四分割喷头组，向各分割喷头组供给的处理气体的流量能被独立地控制。

主权项

一种等离子体处理装置，其特征在于，包括：收纳在俯视时呈矩形的基板的处理室；用于生成电感耦合等离子体的高频天线；和作为所述处理室的金属窗发挥用的在俯视时呈矩形的喷头，在以从所述喷头的中央向外周的方向为径向且以绕所述喷头的外周的方向为周向时，所述喷头在所述径向和所述周向上通过绝缘部件被分割为多个分割喷头，各所述分割喷头能够独立地向所述处理室的内部导入处理气体，所述多个分割喷头被划分为多个分割喷头组，所述多个分割喷头组包括：第一分割喷头组，其包括位于所述喷头的角部的所述分割喷头；第二分割喷头组，其包括位于所述喷头的外周且被所述第一分割喷头组的各所述分割喷头夹着的所述分割喷头；第三分割喷头组，其包括存在于所述喷头的中央的所述分割喷头；和第四分割喷头组，其包括由所述第三分割喷头组与所述第一分割喷头组或所述第二分割喷头组夹着的所述分割喷头，向所述多个分割喷头组各自供给的所述处理气体的流量能被独立地控制。