[发明专利]集成电路以及用于形成集成电路的系统和方法

摘要

集成电路结构包括栅极结构组、第一导电结构、第一组通孔和第二组通孔，以及第一组导电结构。该栅极结构组位于第一层级处。第一导电结构在第一方向上延伸，与该栅极结构组重叠并且位于第二层级处。第一组通孔位于栅极结构组和第一导电结构之间。第一组通孔将该栅极结构组连接至第一导电结构。第一组导电结构在第二方向上延伸，与第一导电结构重叠并且位于第三层级处。第二组通孔将第一组导电结构连接至第一导电结构，并且位于第一组导电结构和第一导电结构之间。

主权项

1.一种集成电路结构，包括：栅极结构组，位于第一层级处，所述栅极结构组中的每个栅极在第一方向上彼此分离，并且在与所述第一方向不同的第二方向上延伸；第一导电结构，在所述第一方向上延伸，与所述栅极结构组重叠并且位于第二层级处；第一组通孔，位于所述栅极结构组和所述第一导电结构之间，所述第一组通孔中的每个通孔位于所述第一导电结构与所述栅极组中的每个栅极重叠的位置处，所述第一通孔组将所述栅极结构组连接至所述第一导电结构；第一组导电结构，在所述第二方向上延伸，与所述第一导电结构重叠，位于第三层级处，所述第一组导电结构中的每个导电结构在所述第一方向上彼此分离并且定位于所述栅极结构组中的一对栅极之间；以及第二组通孔，位于所述第一组导电结构和所述第一导电结构之间，所述第二组通孔中的每个通孔位于所述第一组导电结构与所述第一导电结构重叠的位置处，并且所述第二组通孔将所述第一组导电结构连接至所述第一导电结构。