[发明专利]磁控管组件、磁控溅射腔室及半导体加工设备有效
| 申请号： | 201711215656.5 | 申请日： | 2017-11-28 |
| 公开（公告）号： | CN109841468B | 公开（公告）日： | 2021-06-08 |
| 发明（设计）人： | 宿晓敖;侯珏;赵崇军;兰玥 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | H01J25/52 | 分类号： | H01J25/52;C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;张天舒 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种磁控管组件，包括：旋转机构，用于在驱动机构的驱动下沿其中心轴旋转；第一磁控管，通过第一旋转臂与所述旋转机构固定连接，用以在所述旋转机构旋转时带动所述第一磁控管绕所述中心轴旋转；第二磁控管，与第二旋转臂固定连接，所述第二旋转臂通过旋转轴与所述旋转机构相连，用以在所述旋转机构旋转时带动所述第二磁控管绕所述中心轴旋转；所述旋转轴能够自转，用以带动所述第二磁控管绕所述旋转轴的轴线旋转。本发明还提供一种磁控溅射腔室及半导体加工设备。本发明可以提高靶材的溅射均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 磁控管 组件 磁控溅射 半导体 加工 设备 | ||
【主权项】：
1.一种磁控管组件，其特征在于，包括：旋转机构，用于在驱动机构的驱动下沿其中心轴旋转；第一磁控管，通过第一旋转臂与所述旋转机构固定连接，所述旋转机构旋转时带动所述第一磁控管绕所述中心轴旋转；第二磁控管，与第二旋转臂固定连接，所述第二旋转臂通过旋转轴与所述旋转机构相连，所述旋转机构旋转时带动所述第二磁控管绕所述中心轴旋转；所述旋转轴能够自转，用以带动所述第二磁控管绕所述旋转轴的轴线旋转。
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