[发明专利]一种基于硅纳米线阵列的异质结光伏电池及其制备方法有效
申请号: | 201711221172.1 | 申请日: | 2017-11-28 |
公开(公告)号: | CN107946471B | 公开(公告)日: | 2021-01-26 |
发明(设计)人: | 赵红英 | 申请(专利权)人: | 金寨嘉悦新能源科技有限公司 |
主分类号: | H01L51/48 | 分类号: | H01L51/48;H01L51/46;H01L51/42;H01L51/44;B82Y30/00;B82Y40/00 |
代理公司: | 广州市红荔专利代理有限公司 44214 | 代理人: | 吴伟文;黄大宇 |
地址: | 237300 安徽省六安市金寨现代产*** | 国省代码: | 安徽;34 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种基于硅纳米线阵列的异质结光伏电池及其制备方法,用以提高光伏电池的光电转换效率。基于硅纳米线阵列的异质结光伏电池的制作方法包括:n型硅片的清洗;在n型硅片的表面制备硅纳米线阵列;对n型硅片以及硅纳米线各自的表面进行钝化处理;硅纳米线/P3HT复合活性膜的制备;PEDOT:PSS/P型Cu9S5导电化合物/硼掺杂石墨烯复合导电层的制备;聚乙烯亚胺有机钝化层的制备;ITO透明导电层的制备;正面银栅电极的制备;背面电极的制备。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 纳米 阵列 异质结光伏 电池 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种基于硅纳米线阵列的异质结光伏电池的制备方法,其特征在于:包括以下步骤:(1)n型硅片的清洗:将n型硅片依次在丙酮、乙醇、去离子水中超声清洗20‑40分钟,并用氮气吹干,接着将吹干的n型硅片置于浓硫酸/双氧水混合溶液中,110‑120℃下热处理40‑60分钟,接着用去离子水冲洗n型硅片,最后利用氢氟酸去除所述n型硅片的表面的自然氧化硅层;(2)在n型硅片的表面制备硅纳米线阵列:将步骤1得到的硅片置于硝酸银/氢氟酸混合溶液中,其中硝酸银的摩尔浓度为0.02mol/l,氢氟酸的摩尔浓度为4.8mol/l,室温下反应20‑40分钟,然后取出n型硅片,去离子冲洗后,在硝酸溶液中浸泡30‑70分钟,以去除n型硅片表面的银颗粒,然后用去离子水清洗硅片,并用氮气吹干以备用;(3)对n型硅片以及硅纳米线各自的表面进行钝化处理:将步骤2得到n型硅片在氢氟酸溶液中浸泡5‑20分钟,然后浸入硫化氨的水溶液中,n型硅片作为阳极,并在硫化氨的水溶液中放置铂电极作为阴极,进行电镀硫化处理,在n型硅片以及硅纳米线各自的表面形成硫化钝化层;(4)硅纳米线/P3HT复合活性膜的制备:在步骤3得到的n型硅片的正面旋涂含有n型硅纳米线的P3HT溶液,转速为500‑1500转/分钟,旋涂时间为2‑5分钟,然后置于氮气氛围中进行退火处理,退化温度为100℃,退火时间为5‑15分钟,形成致密的硅纳米线/P3HT复合活性膜;(5)PEDOT:PSS/P型Cu9S5导电化合物/硼掺杂石墨烯复合导电层的制备:在硅纳米线/P3HT复合活性膜表面旋涂含有P型Cu9S5导电化合物和硼掺杂石墨烯的PEDOT:PSS溶液;转速为2000‑3000转/分钟,旋涂时间为3‑6分钟,然后置于氮气氛围中进行退火处理,退化温度为110‑120℃,退火时间为10‑20分钟,形成致密的PEDOT:PSS/P型Cu9S5导电化合物/硼掺杂石墨烯复合导电层;(6)聚乙烯亚胺有机钝化层的制备:在所述n型硅片正面旋涂聚乙烯亚胺溶液,然后置于氮气氛围中进行退火处理,退化温度为90‑120℃,退火时间为5‑10分钟,以形成聚乙烯亚胺有机钝化层;(7)ITO透明导电层的制备:在步骤6得到的n型硅片的正面利用磁控溅射工艺形成ITO透明导电层;(8)正面银栅电极的制备:在真空环境下利用热蒸镀法,在n型硅片正面蒸镀正面银栅电极;(9)背面电极的制备:在真空环境下利用热蒸镀法,在n型硅片背面蒸镀钛钯银背面电极。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于金寨嘉悦新能源科技有限公司,未经金寨嘉悦新能源科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201711221172.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:通信塔(凛冬之焰)
- 下一篇:体异质结量子点发光二极管
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择