[发明专利]一种基于硅纳米线阵列的异质结光伏电池及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201711221172.1 申请日: 2017-11-28
公开(公告)号: CN107946471B 公开(公告)日: 2021-01-26
发明(设计)人: 赵红英 申请(专利权)人: 金寨嘉悦新能源科技有限公司
主分类号: H01L51/48 分类号: H01L51/48;H01L51/46;H01L51/42;H01L51/44;B82Y30/00;B82Y40/00
代理公司: 广州市红荔专利代理有限公司 44214 代理人: 吴伟文;黄大宇
地址: 237300 安徽省六安市金寨现代产*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明涉及一种基于硅纳米线阵列的异质结光伏电池及其制备方法,用以提高光伏电池的光电转换效率。基于硅纳米线阵列的异质结光伏电池的制作方法包括:n型硅片的清洗;在n型硅片的表面制备硅纳米线阵列;对n型硅片以及硅纳米线各自的表面进行钝化处理;硅纳米线/P3HT复合活性膜的制备;PEDOT:PSS/P型Cu9S5导电化合物/硼掺杂石墨烯复合导电层的制备;聚乙烯亚胺有机钝化层的制备;ITO透明导电层的制备;正面银栅电极的制备;背面电极的制备。
搜索关键词: 一种 基于 纳米 阵列 异质结光伏 电池 及其 制备 方法
【主权项】:
一种基于硅纳米线阵列的异质结光伏电池的制备方法,其特征在于:包括以下步骤:(1)n型硅片的清洗:将n型硅片依次在丙酮、乙醇、去离子水中超声清洗20‑40分钟,并用氮气吹干,接着将吹干的n型硅片置于浓硫酸/双氧水混合溶液中,110‑120℃下热处理40‑60分钟,接着用去离子水冲洗n型硅片,最后利用氢氟酸去除所述n型硅片的表面的自然氧化硅层;(2)在n型硅片的表面制备硅纳米线阵列:将步骤1得到的硅片置于硝酸银/氢氟酸混合溶液中,其中硝酸银的摩尔浓度为0.02mol/l,氢氟酸的摩尔浓度为4.8mol/l,室温下反应20‑40分钟,然后取出n型硅片,去离子冲洗后,在硝酸溶液中浸泡30‑70分钟,以去除n型硅片表面的银颗粒,然后用去离子水清洗硅片,并用氮气吹干以备用;(3)对n型硅片以及硅纳米线各自的表面进行钝化处理:将步骤2得到n型硅片在氢氟酸溶液中浸泡5‑20分钟,然后浸入硫化氨的水溶液中,n型硅片作为阳极,并在硫化氨的水溶液中放置铂电极作为阴极,进行电镀硫化处理,在n型硅片以及硅纳米线各自的表面形成硫化钝化层;(4)硅纳米线/P3HT复合活性膜的制备:在步骤3得到的n型硅片的正面旋涂含有n型硅纳米线的P3HT溶液,转速为500‑1500转/分钟,旋涂时间为2‑5分钟,然后置于氮气氛围中进行退火处理,退化温度为100℃,退火时间为5‑15分钟,形成致密的硅纳米线/P3HT复合活性膜;(5)PEDOT:PSS/P型Cu9S5导电化合物/硼掺杂石墨烯复合导电层的制备:在硅纳米线/P3HT复合活性膜表面旋涂含有P型Cu9S5导电化合物和硼掺杂石墨烯的PEDOT:PSS溶液;转速为2000‑3000转/分钟,旋涂时间为3‑6分钟,然后置于氮气氛围中进行退火处理,退化温度为110‑120℃,退火时间为10‑20分钟,形成致密的PEDOT:PSS/P型Cu9S5导电化合物/硼掺杂石墨烯复合导电层;(6)聚乙烯亚胺有机钝化层的制备:在所述n型硅片正面旋涂聚乙烯亚胺溶液,然后置于氮气氛围中进行退火处理,退化温度为90‑120℃,退火时间为5‑10分钟,以形成聚乙烯亚胺有机钝化层;(7)ITO透明导电层的制备:在步骤6得到的n型硅片的正面利用磁控溅射工艺形成ITO透明导电层;(8)正面银栅电极的制备:在真空环境下利用热蒸镀法,在n型硅片正面蒸镀正面银栅电极;(9)背面电极的制备:在真空环境下利用热蒸镀法,在n型硅片背面蒸镀钛钯银背面电极。
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