[发明专利]穿心莲内酯类化合物、其药物组合物及应用有效
申请号: | 201711222560.1 | 申请日: | 2017-11-29 |
公开(公告)号: | CN108148022B | 公开(公告)日: | 2023-04-18 |
发明(设计)人: | 高大新;陈寿军;刘凤涛 | 申请(专利权)人: | 江西青峰药业有限公司 |
主分类号: | C07D307/66 | 分类号: | C07D307/66;C07D405/12;C07D413/04;C07D491/048;C07D417/12;A61K31/365;A61K31/496;A61K31/407;A61K31/4355;A61K31/428;A61K31/4184;A61K31/5377;A61P29/00 |
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摘要: |
本发明公开了一种穿心莲内酯类化合物、其制备方法、药物组合物及应用。本发明的穿心莲内酯类化合物(I)、其异构体、前药、溶剂化物或药学上可接受的盐具有如下结构。本发明的穿心莲内酯类化合物具有良好的治疗炎性疾病的作用,所述炎性疾病包括但不限于可能由细菌,病毒等病原体引起的、由自身免疫造成的、由放射线损伤引起的、或其它因素造成的炎性疾病。 |
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搜索关键词: | 穿心莲 内酯 化合物 药物 组合 应用 | ||
【主权项】:
一种穿心莲内酯类化合物(I)、其异构体、前药、溶剂化物、或药学上可接受的盐;其中,a和a’分别独立地为单键或者双键,并且a、a’、M和Z为以下任一组合:1)a为单键、a’为单键、M为C=CH2或CR5R5a、Z为CH2、CHF、或CF2;2)a为单键、a’为双键、M为CR5、Z为CH2;3)a为双键、a’为单键、M为CR5、Z为CH2、CHF、或CF2;双键b的立体构型为Z构型、E构型、或Z/E构型任意比例的混合;X为‑CH2‑、或‑CR6R6a‑;Y为‑CH2‑、‑CHF‑、或‑CF2‑;X、Y和Z同时为‑CH2‑时,R1和R2分别独立地为烷基、‑C(O)R7、‑C(O)OR7、‑S(O)2R7、‑S(O)2OR8、‑OR8、‑NHR8、‑C(O)NR8R9、‑S(O)2NR8R9、或‑P(O)(OR8)(OR9);X、Y和Z不同时为‑CH2‑时,R1和R2分别独立地为氢、烷基、‑C(O)R8、‑C(O)OR8、‑S(O)2R8、‑S(O)2OR8、‑OR8、‑NHR8、‑C(O)NR8R9、‑S(O)2NR8R9、或‑P(O)(OR8)(OR9);或者,R1和R2与它们共同连接的N原子一起形成5‑8元杂环烷基,所述杂环烷基还可以进一步含有1~2个选自C(O)、O、S(O)0‑2、或N的杂原子或基团;所述杂环烷基为未取代或者进一步被1~3个选自烷基、羟基、卤素、卤代烷基、羟基烷基、烷氧基、氨基、氨基烷基的取代基取代在任意位置;R3和R4分别独立地选自氢、烷基、‑Si(Rc)3、‑C(O)Rc、‑SO3M;M为氢、钠或钾;或者,R3和R4相互连接形成5‑8元杂环烷基,所述杂环烷基还可以进一步含有1~2个选自Si、S(O)0‑2、或N的杂原子或基团;所述杂环烷基为未取代或者进一步被1~4个选自烷基或氧代基的取代基取代在任意位置;R5和R5a分别独立地选自C1‑3烷基、或卤代C1‑3烷基;或者,R5和R5a与它们共同连接的C原子一起形成3‑6元环烷基;R6和R6a分别独立地选自D、或取代或未取代的烷基;当所述取代的烷基被取代时可被1~4个选自卤素、C1‑4烷基、C1‑3烷氧基、C1‑3烷氨基、卤代C1‑3烷氧基、‑NO2、‑CN、‑OH、‑SH、或‑NH2的取代基取代在任意位置;或者,R6和R1相互连接形成5‑8元杂环烷基或5‑6元杂芳基,所述杂环烷基还可以进一步含有1~2个选自C(O)、O、S(O)0‑2、或N的杂原子或基团;所述杂环烷基或杂芳基为未取代或者进一步被1~3个选自烷基、羟基、卤素、卤代烷基、羟基烷基、烷氧基、氨基、氨基烷基的取代基取代在任意位置;R7为取代的烷基、取代或未取代的环烷基、取代或未取代的杂环烷基、取代或未取代的芳基、取代或未取代的杂芳基、取代或未取代的环烷基烷基、取代或未取代的杂环烷基烷基、取代或未取代的芳基烷基、取代或未取代的杂芳基烷基;当所述取代的烷基被取代时可被1~4个选自C2‑6烯基、C2‑6炔基、‑NO2、‑CN、‑OC(O)Rc、‑OC(O)NRcRd、‑NRcRd、‑N(Rc)C(O)Rd、‑N(Rc)S(O)2Rd、‑N(Rc)S(O)2NRcRd、‑N(Rc)C(O)NRcRd、‑S(O)2NRcRd、‑S(O)0‑2Rc、‑OP(O)(O‑Rc)2、‑C(O)Rc、‑C(O)ORc、或‑C(O)NRcRd的取代基取代在任意位置;当所述取代的环烷基、取代的杂环烷基、取代的芳基、取代的杂芳基、取代的环烷基烷基、取代的杂环烷基烷基、取代的芳基烷基或者取代的杂芳基烷基被取代时可被1~4个选自卤素、C1‑4烷基、卤代C1‑3烷基、C1‑3烷氧基、卤代C1‑3烷氧基、C2‑6烯基、C2‑6炔基、C3‑6环烷基、3‑6元杂环烷基、苯基、5‑6元杂芳基、‑NO2、‑CN、‑ORc、‑SRc、‑OC(O)Rc、‑OC(O)NRcRd、‑NRcRd、‑N(Rc)C(O)Rd、‑N(Rc)S(O)2Rd、‑N(Rc)S(O)2NRcRd、‑N(Rc)C(O)NRcRd、‑S(O)2NRcRd、‑S(O)0‑2Rc、‑OP(O)(O‑Rc)2、‑C(O)Rc、‑C(O)ORc、或‑C(O)NRcRd的取代基取代在任意位置;R8和R9分别独立地选自氢、取代或未取代的烷基、取代或未取代的环烷基、取代或未取代的杂环烷基、取代或未取代的芳基、取代或未取代的杂芳基、取代或未取代的环烷基烷基、取代或未取代的杂环烷基烷基、取代或未取代的芳基烷基、取代或未取代的杂芳基烷基;当所述取代的烷基、取代的环烷基、取代的杂环烷基、取代的芳基、取代的杂芳基、取代的环烷基烷基、取代的杂环烷基烷基、取代的芳基烷基或者取代的杂芳基烷基被取代时可被1~4个选自卤素、C1‑4烷基、卤代C1‑3烷基、C1‑3烷氧基、卤代C1‑3烷氧基、C2‑6烯基、C2‑6炔基、C3‑6环烷基、3‑6元杂环烷基、苯基、5‑6元杂芳基、‑NO2、‑CN、‑ORc、‑SRc、‑OC(O)Rc、‑OC(O)NRcRd、‑NRcRd、‑N(Rc)C(O
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