[发明专利]一种双反射式飞行时间质谱光电子速度成像仪在审
| 申请号： | 201711229002.8 | 申请日： | 2017-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN107727730A | 公开（公告）日： | 2018-02-23 |
| 发明（设计）人： | 唐紫超;王永天;施再发;张将乐;刘方刚;王可 | 申请（专利权）人： | 厦门大学 |
| 主分类号： | G01N27/62 | 分类号： | G01N27/62;G01T1/29;G01T1/36 |
| 代理公司： | 厦门南强之路专利事务所(普通合伙)35200 | 代理人： | 马应森 |
| 地址： | 361005 *** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 一种双反射式飞行时间质谱光电子速度成像仪，设有激光溅射离子源、冷却离子阱、飞行时间质谱和负离子光电子速度成像系统；激光溅射离子源用于生成团簇离子，产生的团簇离子进入冷却离子阱囚禁冷却后被加速场垂直加速进入飞行时间质谱，负离子光电子速度成像系统对出射光电子进行探测，得中性团簇电子结构的光电子能谱。利用激光溅射离子源生成团簇离子，产生的团簇离子进入线性离子阱囚禁冷却后被加速场垂直加速进入飞行时间质谱，通过质谱探测获得产生团簇离子的强度分布。分析质谱后，选择特定团簇负离子，与脱附激光相互作用，产生中性分子和光电子。利用负离子光电子速度成像系统对出射光电子进行探测，得中性团簇电子结构的光电子能谱。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 反射 飞行 时间 光电子 速度 成像 | ||
【主权项】：
一种双反射式飞行时间质谱光电子速度成像仪，其特征在于设有激光溅射离子源、冷却离子阱、飞行时间质谱和负离子光电子速度成像系统；激光溅射离子源用于生成团簇离子，产生的团簇离子进入冷却离子阱囚禁冷却后被加速场垂直加速进入飞行时间质谱，所述负离子光电子速度成像系统对出射光电子进行探测，得到中性团簇电子结构的光电子能谱。
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