[发明专利]光敏自洁抗菌陶瓷的制备方法在审
| 申请号： | 201711232529.6 | 申请日： | 2017-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN109851320A | 公开（公告）日： | 2019-06-07 |
| 发明（设计）人： | 许涛亮;张娅;刘燕;罗燕 | 申请（专利权）人： | 四川白塔新联兴陶瓷集团有限责任公司 |
| 主分类号： | C04B33/132 | 分类号： | C04B33/132;C04B33/34;C03C8/00;C04B41/86 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 642450 四川省内江市威远县严陵工业园区*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光敏自洁抗菌陶瓷的制备方法，其特征在于包括以下步骤：A.配料、B.制浆、C.制粉、D.压制成型、E.干燥、F.施釉和G.烧成。本发明提供了一种光敏自洁抗菌陶瓷的制备方法，具有更安全、使用方便等优点，同时制备的陶瓷可以长期阻碍或抑制陶瓷表面细菌或致病微生物的生长与繁殖，降低致病微生物传播和感染的机会。 | ||
| 搜索关键词： | 制备 抗菌陶瓷 光敏 自洁 致病微生物 陶瓷表面 烧成 施釉 制粉 制浆 陶瓷 细菌 繁殖 生长 感染 阻碍 传播 安全 | ||
【主权项】：
1.光敏自洁抗菌陶瓷的制备方法，其特征在于包括以下步骤：A.配料：按照重量百分比称取坯体原料，高岭土10%，风化砂7% ，钾长石28% ，低火泥32% ，精白砂12% ，废坯粉4% ，黑滑石7%；B.制浆：按照A中的比例称好原料，并按照料：球：水=1：2：0.35的比例放入球磨机内球磨混合原料；球磨机球磨后形成过250目筛筛余量1.2~1.7%的料浆； C.制粉：将步骤B中得到的浆料通过喷雾干燥器制成料粉，然后陈化2~3天；D.压制成型：将步骤C中得到陈化后的料粉压制成砖坯；E.干燥：将步骤C得到的粉料压制成砖坯，然后梯度升温至200℃，干燥后砖坯含水率在0.5~1%，坯体温度65~70℃；F.施釉：釉料由如下重量百分比的组分组成：SiO2 52～72％、Al2O3 5～9％、CaO 6～10％、K2O 2～6％、Na2O 0.5～1.5％、ZnO 0.5～3％、Li2O 1～3％、TiO2 4～8％、V2O5 1～3％、Ag2O3 1～5％；G.烧成：经施釉后的坯体置于窑内烧成，梯度升温至1200～1270℃，烧成时间40~90min，氧化气氛围。
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