[发明专利]提高注入机生产效率的方法有效

专利信息
申请号: 201711237469.7 申请日: 2017-11-30
公开(公告)号: CN107993931B 公开(公告)日: 2019-11-19
发明(设计)人: 叶锋;袁立军 申请(专利权)人: 上海华力微电子有限公司
主分类号: H01L21/265 分类号: H01L21/265;H01L21/67
代理公司: 31211 上海浦一知识产权代理有限公司 代理人: 郭四华<国际申请>=<国际公布>=<进入
地址: 201203 上海市浦东新区*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种提高注入机生产效率的方法,包括如下步骤:步骤一、根据单次注入时间的要求来调节注入机的注入束流;通过增加注入束流的大小降低所述单次注入时间。步骤二、注入机通过对晶圆进行不同区域的扫描并在各扫描区域进行离子注入实现对晶圆的全片注入,根据减少总体扫描时间的要求来调节所述注入束流;注入束流对光刻胶的碰撞会产生的水汽从而使注入腔体的压强增加,注入束流的大小要求设置到保证在整个注入扫描过程中所述注入腔体的压强都小于上限值,从而不会产生离子注入停止,减少所述总体扫描时间。本发明能够有效提高光刻胶开口率较小的产品生产效率,缩短单片晶圆完成全片注入的时间,提高WPH。
搜索关键词: 提高 注入 生产 效率 方法
【主权项】:
1.一种提高注入机生产效率的方法,其特征在于,包括如下步骤:/n步骤一、根据单次注入时间的要求来调节注入机的注入束流,所述单次注入时间为注入机对晶圆的单次注入区进行所需注入剂量的注入时间,所述单次注入时间和注入束流的积和所述注入剂量成正比,通过增加所述注入束流的大小降低所述单次注入时间;/n步骤二、所述注入机通过对所述晶圆进行不同区域的扫描并在各扫描区域进行离子注入实现对所述晶圆的全片注入,根据减少总体扫描时间的要求来调节所述注入束流;所述注入束流越大,所述注入束流对光刻胶的碰撞而产生的水汽也越多,水汽的增加会使所述注入机的注入腔体的压强增加,当所述注入腔体的压强增加到一个上限值时,离子注入会停止,所述注入束流的大小要求设置到保证在整个注入扫描过程中所述注入腔体的压强都小于上限值,从而不会产生离子注入停止,减少所述总体扫描时间;/n步骤二中,需要根据所述光刻胶的开口率的大小调节所述注入束流,所述光刻胶的开口率越小,被所述注入束流碰撞所产生的水汽也越多,所述注入束流的值越小;或者,步骤二中,需要根据所述光刻胶的厚度的大小调节所述注入束流,所述光刻胶的厚度越厚,被所述注入束流碰撞所产生的水汽也越多,所述注入束流的值越小。/n
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