[发明专利]耐UV染料的制作方法及对应的涂布型染料偏光片有效
申请号: | 201711240185.3 | 申请日: | 2017-11-30 |
公开(公告)号: | CN107916017B | 公开(公告)日: | 2019-11-15 |
发明(设计)人: | 闫春秋;邵源 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电技术有限公司 |
主分类号: | C09B43/132 | 分类号: | C09B43/132;C09B43/00;G02B5/30 |
代理公司: | 44300 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) | 代理人: | 黄威<国际申请>=<国际公布>=<进入国 |
地址: | 518132广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明提供一种耐UV染料的制作方法,其包括:提供一偶氮染料结构;提供一耐UV改性基团;以及在液晶染料混合溶液中,使用耐UV改性基团对偶氮染料结构进行耐UV改性操作,以得到耐UV的改性偶氮染料;本发明还提供一种涂布型染料偏光片。本发明的耐UV染料的制作方法及对应的涂布型染料偏光片通过在涂布型染料偏光片上涂布可吸收UV紫外线的耐UV染料,避免了涂布型染料偏光片受到UV光照射的影响。 | ||
搜索关键词: | uv 染料 制作方法 对应 涂布型 偏光 | ||
【主权项】:
1.一种耐UV染料的制作方法,其特征在于,包括:/n提供一偶氮染料结构;其中所述偶氮染料结构包括依次连接的多个环状结构、用于连接相邻所述环状结构的连接结构、设置在所述偶氮染料结构一端的第一取代基团以及设置在所述偶氮染料结构另一端的第二取代基团;/n提供一耐UV改性基团;其中所述耐UV改性基团为二苯甲酮类基团、苯并三唑基团或受阻胺类光稳定基团;以及/n在液晶染料混合溶液中,使用所述耐UV改性基团对所述偶氮染料结构进行耐UV改性操作,以得到耐UV的改性偶氮染料;其中,/n所述偶氮染料结构为:/n /n其中X表示所述第一取代基团,-SO2CL表示所述第二取代基团。/n
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