[发明专利]一种阵列基板及其制作方法和显示装置在审

专利信息
申请号: 201711242532.6 申请日: 2017-11-30
公开(公告)号: CN107895726A 公开(公告)日: 2018-04-10
发明(设计)人: 晏国文 申请(专利权)人: 武汉天马微电子有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L29/786;H01L21/77
代理公司: 北京晟睿智杰知识产权代理事务所(特殊普通合伙)11603 代理人: 于淼
地址: 430074 湖北省武*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了一种阵列基板及其制作方法和显示装置。阵列基板,包括多个薄膜晶体管,薄膜晶体管包括有源层,有源层包括主沟道区和边缘沟道区,在沿第一方向上,边缘沟道区位于主沟道区的两侧;绝缘层,设置于有源层之上,绝缘层在有源层所在平面的正投影覆盖主沟道区和边缘沟道区;栅极金属层,设置于绝缘层之上,栅极金属层包括栅极和栅极线,其中,栅极线与栅极相连接,栅极线沿第一方向延伸,栅极在有源层所在平面的正投影与主沟道区重合,沿第二方向上,栅极的宽度大于栅极线的宽度。按照本发明的技术方案,可以避免薄膜晶体管产生的驼峰效应,提升了阵列基板和显示装置性能可靠性。
搜索关键词: 一种 阵列 及其 制作方法 显示装置
【主权项】:
一种阵列基板,其特征在于,包括多个薄膜晶体管,所述薄膜晶体管包括:有源层,所述有源层包括主沟道区和边缘沟道区,在沿第一方向上,所述边缘沟道区位于所述主沟道区的两侧;绝缘层,设置于所述有源层之上,所述绝缘层在所述有源层所在平面的正投影覆盖所述主沟道区和所述边缘沟道区;栅极金属层,设置于所述绝缘层之上,所述栅极金属层包括栅极和栅极线,其中,所述栅极线与所述栅极相连接,所述栅极线沿所述第一方向延伸,所述栅极在所述有源层所在平面的正投影与所述主沟道区重合,沿第二方向上,所述栅极的宽度大于所述栅极线的宽度,所述第一方向与所述第二方向均与所述有源层所在的平面平行,且所述第一方向与所述第二方向相交。
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