[发明专利]一种通用两电极型修饰电极单元及其制备方法和应用

摘要

本发明公开了一种通用两电极型修饰电极单元及其制备方法和应用。本发明通过光刻法制备导电电极材料基底，用聚二甲基硅氧烷基片作为贮液池，阴极和阳极分别使用电化学方法沉积惰性金属保护膜和还原氧化石墨烯进行修饰，得到的修饰电极单元。该修饰电极单元具有出色的电催化活性和稳定性，在检测过氧化氢和抗坏血酸等生物分子时具有很好的灵敏度和再现性，并可并联成电极组用于批量检测，或串联成隔离式双极电极应用于双极电化学发光等领域。

主权项

1.一种通用两电极型修饰电极单元的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：（1）用光刻法按设计图样制得所需的电极基体图案，再切割，得到电极片单元；（2）用聚二甲基硅氧烷基片按电极基体图案裁切并粘合在电极片单元上作为贮液池；（3）用恒电位电解法将惰性金属保护层沉积在电极片单元的阴极：使用两电极体系，步骤（2）所得电极单元两极分别为阳极和阴极，调节电解电压为0.5~2.5 V，在阴极沉积惰性金属保护层，再清洗，得惰性金属保护层修饰的阴极；（4）用电化学方法将氧化石墨原位沉积和还原在电极片单元的阳极：以氧化石墨均匀分散液为电解液，两电极单元阳极为工作电极，往贮液池内注入氧化石墨均匀分散液，扫描低电位范围为-1.5 V ~ -1.0 V，扫描高电位范围为-0.4 V ~ 0 V，扫描速度为5 mV/s ~500 mV/s ，扫描5~50圈，使阳极沉积上还原的石墨烯，得石墨烯修饰的电极阳极，再用蒸馏水冲洗干净并烘干，得修饰电极单元。