[发明专利]常压低温等离子体处理种子设备和操作方法在审
| 申请号： | 201711245263.9 | 申请日： | 2017-12-01 |
| 公开（公告）号： | CN107911931A | 公开（公告）日： | 2018-04-13 |
| 发明（设计）人： | 万良淏;戴阳 | 申请（专利权）人： | 南京苏曼等离子科技有限公司 |
| 主分类号： | H05H1/24 | 分类号： | H05H1/24 |
| 代理公司： | 南京源古知识产权代理事务所(普通合伙)32300 | 代理人： | 马晓辉 |
| 地址： | 211178 江苏省南*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种大气常压辉光放电低温等离子体处理种子设备，包括低温等离子体处理基台和低温等离子体金属电极，所述低温等离子处理基台和大地地线连接，所述的低温等离子体金属电极与高压连接，所述低温等离子体金属电极设置在绝缘体介质管内，设有绝缘体介质板位于低温等离子处理基台上，覆盖低温等离子处理基台，所示绝缘体介质管通过四氟支架固定，并使所述绝缘体介质管与所述低温等离子处理基台保持水平，所述四氟支架上设有手柄，所述四氟支架的两端通过侧板和所述低温等离子处理基台连接，并能够在绝缘体介质板上平稳滑动。本发明了还提供设备的操作方法，本发明操作简便、可控性强、处理成本低。 | ||
| 搜索关键词： | 常压 低温 等离子体 处理 种子 设备 操作方法 | ||
【主权项】：
一种常压低温等离子体处理种子设备，包括低温等离子体处理基台（6）和低温等离子体金属电极，所述低温等离子处理基台（6）和大地地线连接，所述的低温等离子体金属电极与高压连接，其特征在于：所述低温等离子体金属电极设置在绝缘体介质管（5）内，设有绝缘体介质板（2）位于低温等离子处理基台（6）上，覆盖低温等离子处理基台（6），所示绝缘体介质管（5）通过四氟支架（3）固定，并使所述绝缘体介质管（5）与所述低温等离子处理基台（6）保持水平，所述四氟支架（3）上设有手柄（4），所述四氟支架（3）的两端通过侧板（7）和所述低温等离子处理基台（6）连接，并能够在绝缘体介质板（2）上平稳滑动。
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