[发明专利]抛光垫修整装置及其制造方法以及抛光垫修整方法在审

专利信息
申请号: 201711246889.1 申请日: 2017-12-01
公开(公告)号: CN109866108A 公开(公告)日: 2019-06-11
发明(设计)人: 陈盈同 申请(专利权)人: 咏巨科技有限公司
主分类号: B24B53/017 分类号: B24B53/017
代理公司: 北京律和信知识产权代理事务所(普通合伙) 11446 代理人: 冷文燕;刘国伟
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明公开一种抛光垫修整装置、抛光垫修整装置的制造方法及抛光垫修整方法。抛光垫修整装置用以修整抛光垫,且包括底座、第一研磨组件以及第二研磨组件。底座具有一结合面以及和结合面相对的底面。第一研磨组件设置于结合面上,并具有一第一研磨结构,且第一研磨结构具有多个第一研磨刃部。第二研磨组件设置于结合面上并具有一第二研磨结构,且第二研磨结构具有多个第二研磨刃部。第二研磨结构对抛光垫的材料移除率大于第一研磨结构对抛光垫的材料移除率,且第二研磨刃部的尖端相对于底面的高度低于第一研磨刃部的尖端相对于底面的高度。据此,在应用抛光垫修整装置来修整抛光垫时,可以缩短修整的时间,又可使抛光垫具有较低的表面粗糙度。
搜索关键词: 研磨结构 抛光垫修整装置 抛光垫 研磨刃部 研磨组件 修整 抛光垫修整 材料移除 尖端相对 结合面 底座 表面粗糙度 底面 制造 应用
【主权项】:
1.一种抛光垫修整装置,其用以修整一抛光垫,其特征在于,所述抛光垫修整装置包括:一底座,其具有一结合面及和所述结合面相对的一底面;一第一研磨组件,其设置于所述结合面上并具有一第一研磨结构,且所述第一研磨结构具有多个第一研磨刃部;以及一第二研磨组件,其设置于所述结合面上并具有一第二研磨结构,且所述第二研磨结构具有多个第二研磨刃部;其中,所述第二研磨结构对所述抛光垫的材料移除率大于所述第一研磨结构对所述抛光垫的材料移除率,且所述第二研磨刃部的尖端相对于所述底面的高度低于所述第一研磨刃部的尖端相对于所述底面的高度。
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