[发明专利]射频离子源工作参数优化方法有效
申请号: | 201711251535.6 | 申请日: | 2017-12-01 |
公开(公告)号: | CN108032145B | 公开(公告)日: | 2019-07-26 |
发明(设计)人: | 唐瓦;邓伟杰;尹小林;薛栋林;张学军 | 申请(专利权)人: | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
主分类号: | B24B1/00 | 分类号: | B24B1/00;G06F17/50 |
代理公司: | 深圳市科进知识产权代理事务所(普通合伙) 44316 | 代理人: | 赵勍毅 |
地址: | 130033 吉林省长春*** | 国省代码: | 吉林;22 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种射频离子源工作参数优化方法,包括:获取光学镜面误差信息,并确定去除函数最优半宽尺寸;选择离子源前端出口尺寸;通过法拉第杯对离子源的离子束流进行测量;自动调整射频电源功率和工作气体流量,其中控制系统与离子源连接并用于控制离子源的射频电源功率和工作气体流量;根据法拉第杯扫描结果选择电流最大值时对应的射频电源功率和工作气体流量;控制系统自动调整离子源工作参数,并根据法拉第杯扫描结果选择电流值最大时对应的加速电压值;固定上述离子源工作参数,进行法拉第杯扫描;通过法拉第杯扫描计算得到去除函数信息;仿真计算判断去除函数是否满足工作需求,若否则重新对离子源的离子束流进行测量,若是则优化结束。 | ||
搜索关键词: | 射频 离子源 工作 参数 优化 方法 | ||
【主权项】:
1.一种射频离子源工作参数优化方法,用于离子源对光学镜面进行离子束抛光,其特征在于,包括如下步骤:步骤(1):获取光学镜面误差信息,并确定去除函数最优半宽尺寸;步骤(2):选择离子源前端出口尺寸,并以此进行离子源的其他工作参数的优化;步骤(3):通过法拉第杯对离子源的离子束流进行测量;步骤(4):控制系统自动调整射频电源功率和工作气体流量,其中控制系统与离子源连接并用于控制离子源的射频电源功率和工作气体流量;步骤(5):控制系统自动调整离子源工作参数;步骤(6):固定上述离子源工作参数,进行法拉第杯扫描;步骤(7):通过法拉第杯扫描计算得到去除函数信息;步骤(8):仿真计算判断去除函数是否满足工作需求,若否则回到步骤(3),若是则优化结束;所述步骤(1)中,对镜面误差进行频谱分析,结合镜面口径尺寸和误差空间波长来分别划定镜面误差内的高、中、低频误差频段;镜面误差的高、中、低频误差频段,通过离散傅里叶频谱表示;在对镜面频段误差进行分析后,可以划定镜面误差里高、中、低频误差的空间波长特征,并以此为根据选择所需要的离子束去除函数信息。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,未经中国科学院长春光学精密机械与物理研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201711251535.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种摩擦配向膜的检测方法及装置
- 下一篇:一种中立锁手动开锁机构