[发明专利]一种适用于多基色和超高分辨率的量子点彩膜结构在审

专利信息
申请号: 201711256429.7 申请日: 2017-12-04
公开(公告)号: CN107797333A 公开(公告)日: 2018-03-13
发明(设计)人: 徐胜;陈恩果;叶芸;郭太良;林志贤;杨尊先;林映飞;缪煌辉 申请(专利权)人: 福州大学
主分类号: G02F1/1335 分类号: G02F1/1335;G02F1/13357
代理公司: 福州元创专利商标代理有限公司35100 代理人: 蔡学俊,丘鸿超
地址: 350116 福建省福州市*** 国省代码: 福建;35
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种适用于多基色和超高分辨率的量子点彩膜结构。黑矩阵障壁通过光刻或印刷于玻璃基板上表面,量子点浆料填充于所述黑矩阵障壁对应颜色子像素区域中,封装层用于将量子点浆料封装固化于黑矩阵障壁对应颜色子像素区域中,防蓝光膜层、调光膜层从下到上依次设置于所述封装层上;利用蓝光去激发所述黑矩阵障壁对应颜色子像素区域的量子点,发出相应颜色的单色光,并通过所述防蓝光膜层、调光膜层提高所述黑矩阵障壁对应颜色子像素区域出光颜色的纯度,减少窜扰,且对透射出的光线起到正面矫直出射的作用,有效提高正面出光亮度。本发明结构能够克服蓝光激发量子点发光的过程当中色彩转换率不佳导致色纯度降低和光利用率下降的问题。
搜索关键词: 一种 适用于 基色 超高 分辨率 量子 膜结构
【主权项】:
一种适用于多基色和超高分辨率的量子点彩膜结构,其特征在于:包括玻璃基板、黑矩阵障壁、量子点浆料、封装层、防蓝光膜层、调光膜层;所述黑矩阵障壁通过光刻或印刷于玻璃基板上表面,并能够根据需要设置成各种样式排列,所述量子点浆料填充于所述黑矩阵障壁对应颜色子像素区域中,所述封装层用于将量子点浆料封装固化于黑矩阵障壁对应颜色子像素区域中,所述防蓝光膜层、调光膜层从下到上依次设置于所述封装层上;利用蓝光去激发所述黑矩阵障壁对应颜色子像素区域的量子点,发出相应颜色的单色光,并通过所述防蓝光膜层、调光膜层提高所述黑矩阵障壁对应颜色子像素区域出光颜色的纯度,减少窜扰,且对透射出的光线起到正面矫直出射的作用,有效提高正面出光亮度。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于福州大学,未经福州大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201711256429.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top