[发明专利]一种蒸镀用掩膜组件有效
| 申请号： | 201711257634.5 | 申请日： | 2017-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN107978676B | 公开（公告）日： | 2019-11-26 |
| 发明（设计）人： | 余威 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | H01L51/00 | 分类号： | H01L51/00;H01L51/56;C23C14/04 |
| 代理公司： | 44280 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人： | 袁江龙<国际申请>=<国际公布>=<进入 |
| 地址： | 430000 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种蒸镀用掩膜组件。其中，蒸镀用掩膜组件包括：框架，用于设置掩膜垫；支撑件，与框架相连接以用于承托掩膜垫；掩膜垫，设于支撑件上以用于平衡支撑件因重力下垂产生的形变高度差。通过上述组件，可以有效改善掩膜板下垂问题，优化蒸镀效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 蒸镀用掩膜 组件 | ||
【主权项】：
1.一种蒸镀用掩膜组件，其特征在于，包括：/n框架，用于设置掩膜垫；/n支撑件，与所述框架相连接以用于承托所述掩膜垫；/n掩膜垫，设于所述支撑件上以用于平衡所述支撑件因重力下垂产生的形变高度差；/n其中，所述支撑件呈长条状，所述支撑件的两端与所述框架相连接，所述掩膜垫与所述支撑件一体成型，所述掩膜垫为多个，间隔分布设置在所述支撑件上，多个所述掩膜垫的厚度与所述形变高度差相匹配，所述掩膜垫的厚度分布是从中央到边缘逐渐降低。/n
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