[发明专利]一种日光温室黄瓜浇水的方法

摘要

本发明公开了一种日光温室黄瓜浇水的方法，制作“凹”形栽培垄，由2条凸出带和1条凹陷带组成，凸出带宽20cm、高20cm；凹陷带宽30cm、深10cm，相邻2条栽培垄间距110cm；黄瓜定植在“凹”形栽培垄两侧的凸出带上；日光温室内安装滴灌设备用于黄瓜灌溉，滴灌带安装于凹陷带中间；在栽培垄上设置1组土壤水分传感器，实现自动控制灌溉。本发明可使土壤耕作层始终保持黄瓜生长发育所需要的适宜含水量，浇水施肥后，肥水分布在耕作层中，且分布均匀，肥水利用率高，能够减少肥料用量。本发明比现有的水肥一体化技术节水15%以上，氮肥利用率提高8.3%，肥料减施13.1%以上。

主权项

1.一种日光温室黄瓜浇水的方法，其特征在于：制作“凹”形栽培垄，由2条凸出带和1条凹陷带组成，凸出带宽20cm、高20cm；凹陷带宽30cm、深10cm，相邻2条栽培垄间距110cm；黄瓜定植在“凹”形栽培垄两侧的凸出带上，株距35cm；日光温室内安装滴灌设备用于黄瓜灌溉，滴灌带安装于凹陷带中间；任选一条“凹”形栽培垄，在凹陷带距滴灌带10cm处，插入1只土壤水分传感器A，土壤水分传感器A探头距凹陷带凹面土壤表面5cm；在任一条凸出带的正中间，再埋入另1只土壤水分传感器B，土壤水分传感器B探头距凸出带凸面土壤表面5cm；滴灌设备自动开启或关闭由控制器控制，土壤水分传感器A和土壤水分传感器B均与控制器连接，所述控制器用于判断所述土壤水分传感器A或土壤水分传感器B发送来的土壤水分含量是否达到预设的阈值，当土壤水分传感器A检测到土壤水分含量不大于57.5%时，滴灌设备开启开始浇水，当土壤水分传感器B检测到土壤水分含量不小于87.5%时，滴灌设备关闭停止浇水。