[发明专利]一种连续式磁控溅射装置及连续式磁控溅射的方法在审
| 申请号： | 201711267226.8 | 申请日： | 2017-12-05 |
| 公开（公告）号： | CN107779835A | 公开（公告）日： | 2018-03-09 |
| 发明（设计）人： | 毛华云;梁礼渭 | 申请（专利权）人： | 江西金力永磁科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/56 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司11227 | 代理人： | 赵青朵 |
| 地址： | 341000 江西省*** | 国省代码： | 江西;36 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种连续式磁控溅射装置，包括含有真空腔室、磁控溅射腔室和冷却腔室的磁控溅射炉；所述真空腔室设置在所述磁控溅射腔室的一侧，所述真空腔室和磁控溅射腔室之间用第一可活动装置隔开；所述冷却腔室设置在所述磁控溅射腔室的另一侧，所述冷却腔室和磁控溅射腔室之间用第二可活动装置隔开；所述真空腔室设置于所述磁控溅射炉的入口处，所述冷却腔室设置于述磁控溅射炉的出口处。本发明提供了一种连续式磁控溅射装置，具有连续的三个腔室，按工作顺序分别为真空腔室、磁控溅射腔室、冷却腔室。三个腔室之间以可活动装置隔开，各自工作，互不干扰，从而实现了生产连续性，减少抽真空和冷却的等待时间，提高生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 连续 磁控溅射 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种连续式磁控溅射装置，其特征在于，包括含有真空腔室、磁控溅射腔室和冷却腔室的磁控溅射炉；所述真空腔室设置在所述磁控溅射腔室的一侧，所述真空腔室和磁控溅射腔室之间用第一可活动装置隔开；所述冷却腔室设置在所述磁控溅射腔室的另一侧，所述冷却腔室和磁控溅射腔室之间用第二可活动装置隔开；所述真空腔室设置于所述磁控溅射炉的入口处，所述冷却腔室设置于所述磁控溅射炉的出口处。
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