[发明专利]配向膜烘干装置

摘要

本发明提供了一种配向膜烘干装置。该配向膜烘干装置，用于对基板上的配向液进行烘干，基板具有相对的正表面和背表面，正表面具有配向液涂布区域，配向液涂布区域在背表面的投影为第一非涂布区域，基板的全部表面中除配向液涂布区域和第一非涂布区域之外的区域为第二非涂布区域，装置包括：加热板，设置于基板的远离正表面的一侧；以及支撑组件，设置于加热板的靠近基板的一侧，用于支撑基板以使基板与加热板之间具有间隙，支撑组件包括：第一磁体部，与第二非涂布区域接触设置；第二磁体部，与加热板接触设置，且在烘干过程中，第二磁体部与第一磁体部相互排斥。采用上述配向膜烘干装置保证了取向膜的厚度和表面均匀度，避免了配向膜出现色差。

主权项

一种配向膜烘干装置，用于对基板(10)上的配向液进行烘干，所述基板具有相对的正表面和背表面，所述正表面具有配向液涂布区域，所述配向液涂布区域在所述背表面的投影为第一非涂布区域，所述基板的全部表面中除所述配向液涂布区域和所述第一非涂布区域之外的区域为第二非涂布区域，其特征在于，所述配向膜烘干装置包括：加热板(20)，设置于所述基板(10)的远离所述正表面的一侧；以及支撑组件(30)，设置于所述加热板(20)的靠近所述基板(10)的一侧，用于支撑所述基板(10)以使所述基板(10)与所述加热板(20)之间具有间隙，所述支撑组件(30)包括：第一磁体部(310)，与所述第二非涂布区域接触设置；第二磁体部(320)，与所述加热板(20)接触设置，且在烘干过程中，所述第二磁体部(320)与所述第一磁体部(310)相互排斥。