[发明专利]磁电耦合器件有效

专利信息
申请号: 201711271098.4 申请日: 2017-12-05
公开(公告)号: CN109873075B 公开(公告)日: 2021-01-01
发明(设计)人: 于浦;李好博;鲁年鹏;马静;南策文 申请(专利权)人: 清华大学
主分类号: H01L43/08 分类号: H01L43/08;H01L43/10
代理公司: 北京华进京联知识产权代理有限公司 11606 代理人: 刘诚
地址: 100084*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及一种磁电耦合器件,包括:导电基底、过渡金属氧化物层和磁性金属层。所述过渡金属氧化物层设置于所述导电基底的表面。所述过渡金属氧化物层为SrCoO2.5和HSrCoO2.5组成的混合物,其中所述SrCoO2.5所占的比例为0%‑100%。所述磁性金属层设置于所述过渡金属氧化物层的表面,所述过渡金属氧化物层设置于所述导电基底与所述磁性金属层之间。所述磁电耦合器件通过氢离子和/或氧离子的迁移实现所述磁电耦合器件磁性的调控。本申请中提供的所述磁电耦合器件能够实现低功耗、响应快、室温可调的磁电耦合效应。所述磁电耦合器件能够极大的降低器件成本、提高集成度,促进离子调控的磁电耦合器件向应用领域迈进。
搜索关键词: 磁电 耦合 器件
【主权项】:
1.一种磁电耦合器件,包括:导电基底(110);过渡金属氧化物层(120),设置于所述导电基底(110)的表面,所述过渡金属氧化物层(120)为SrCoO2.5和SrCoO2.5H组成的混合物,其中所述SrCoO2.5所占的比例为0%‑100%;磁性金属层(130),设置于所述过渡金属氧化物层(120)的表面,所述过渡金属氧化物层(120)设置于所述导电基底(110)与所述磁性金属层(130)之间。
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