[发明专利]一种多孔碳化物涂层的制备方法在审
| 申请号： | 201711275092.4 | 申请日： | 2017-12-06 |
| 公开（公告）号： | CN108103478A | 公开（公告）日： | 2018-06-01 |
| 发明（设计）人： | 张锋;林俊;李子威;王鹏;仲亚娟;曹长青;于小河;杨旭;朱智勇 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海应用物理研究所 |
| 主分类号： | C23C16/32 | 分类号： | C23C16/32;C23C16/56 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 31002 | 代理人： | 邓琪;宋丽荣 |
| 地址： | 201800 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种多孔碳化物涂层的制备方法，包括如下步骤：S1，将基底固定在化学气相沉积装置中；S2，以氢气或氩气作为载带稀释气体，将碳化物前驱体和造孔气按预设比例通入化学气相沉积装置中并在高温下裂解反应沉积，在基底表面获得碳化物和碳的复合涂层，其中，该造孔气为有机烃；S3，通过高温氧化去除复合涂层中的碳，得到多孔碳化物涂层。根据本发明的多孔碳化物涂层的制备方法，通过调节碳化物前驱体和造孔气的比例可以精确控制最终形成的碳化物涂层的孔隙率。 | ||
| 搜索关键词： | 碳化物涂层 碳化物 造孔 制备 化学气相沉积装置 复合涂层 前驱体 氩气 高温氧化 基底表面 基底固定 裂解反应 稀释气体 氢气 孔隙率 有机烃 预设 载带 沉积 去除 | ||
【主权项】：
1.一种多孔碳化物涂层的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：S1，将基底固定在化学气相沉积装置中；S2，以氢气或氩气作为载带稀释气体，将碳化物前驱体和造孔气按预设比例通入化学气相沉积装置中并在高温下裂解反应沉积，在基底表面获得碳化物和碳的复合涂层，其中，该造孔气为有机烃；S3，通过高温氧化去除复合涂层中的碳，得到多孔碳化物涂层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院上海应用物理研究所，未经中国科学院上海应用物理研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201711275092.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
