[发明专利]稀土氧化物的顶部涂层的离子辅助沉积有效

专利信息
申请号: 201711275217.3 申请日: 2015-04-20
公开(公告)号: CN107916399B 公开(公告)日: 2020-05-12
发明(设计)人: J·Y·孙;B·P·卡农戈;V·菲鲁兹多尔 申请(专利权)人: 应用材料公司
主分类号: C23C14/08 分类号: C23C14/08;C23C14/22;H01J37/32
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 李炜;侯颖媖
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 本申请公开了稀土氧化物的顶部涂层的离子辅助沉积。制造制品的方法包含以下步骤:提供制品,所述制品诸如,用于蚀刻反应器的腔室部件。执行等离子体喷涂沉积工艺以在腔室部件的至少一个表面上方沉积第一保护层。所述第一保护层是具有大于约50微米的厚度以及多个裂痕与孔隙的抗等离子体的陶瓷。随后执行离子辅助沉积(IAD)工艺以在第一保护层上方沉积第二保护层。所述第二保护层是具有小于50微米的厚度以及小于1%的孔隙度的抗等离子体的稀土氧化物。第二保护层密封第一保护层的所述多个裂痕与孔隙。
搜索关键词: 稀土 氧化物 顶部 涂层 离子 辅助 沉积
【主权项】:
一种腔室部件,所述腔室部件包含:主体;第一保护层,所述第一保护层在所述主体的至少一个表面上,所述第一保护层包含抗等离子体的陶瓷,其中,所述第一保护层具有大于50微米的厚度且包含多个裂痕与孔隙;以及共形的第二保护层,所述第二保护层覆盖所述第一保护层的至少部分,所述第二保护层由40‑100摩尔%的Y2O3、0‑60摩尔%的ZrO2和0‑10摩尔%的Al2O3组成,其中,所述第二保护层具有小于50微米的厚度,具有小于1%的孔隙度,并且密封所述第一保护层的所述多个裂痕与孔隙。
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