[发明专利]掩膜板及其制作方法有效
申请号: | 201711275668.7 | 申请日: | 2017-12-06 |
公开(公告)号: | CN108149190B | 公开(公告)日: | 2020-06-30 |
发明(设计)人: | 龚建国;王衣可;杨颖;冉应刚;吴俊雄;柯贤军;苏君海;李建华 | 申请(专利权)人: | 信利(惠州)智能显示有限公司 |
主分类号: | C23C14/04 | 分类号: | C23C14/04;H01L51/56 |
代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 叶剑 |
地址: | 516029 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明涉及一种掩膜板及其制作方法,所述方法包括:提供掩膜板原料;对所述掩膜板原料的一面进行刻蚀,以使得所述掩膜板原料的厚度减小;对所述掩膜板原料刻蚀后的一面进行磨平处理;对磨平后的所述掩膜板原料进行刻蚀,在所述掩膜板原料上刻蚀出像素开口,形成具有所述像素开口的所述掩膜板。首先经过刻蚀,使得掩膜板原料的厚度减小,进而将掩膜板进行磨平处理后,使得该掩膜板原料能够刻蚀出像素开口间距更小的掩膜板,从而提高了掩膜板的蒸镀的PPI,并且有效避免掩膜板被刻穿,使得掩膜板的结构更为稳固,使得掩膜板的张拉性能更佳,且有效提高了掩膜板的使用寿命。 | ||
搜索关键词: | 掩膜板 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
一种掩膜板的制作方法,其特征在于,包括:提供掩膜板原料;对所述掩膜板原料的一面进行刻蚀,以使得所述掩膜板原料的厚度减小;对所述掩膜板原料刻蚀后的一面进行磨平处理;对磨平后的所述掩膜板原料进行刻蚀,在所述掩膜板原料上刻蚀出像素开口,形成具有所述像素开口的所述掩膜板。
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