[发明专利]保护膜、复合材料及其制备方法和应用在审
| 申请号： | 201711283753.8 | 申请日： | 2017-12-07 |
| 公开（公告）号： | CN108043680A | 公开（公告）日： | 2018-05-18 |
| 发明（设计）人： | 易伟华;张迅;周慧蓉;郑芳平 | 申请（专利权）人： | 江西沃格光电股份有限公司 |
| 主分类号： | B05D1/36 | 分类号： | B05D1/36;B05D1/00 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 生启 |
| 地址： | 338004 江西省新余*** | 国省代码： | 江西;36 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种保护膜、复合材料及其制备方法和应用。一种保护膜包括依次层叠的第一五氧化二铌层、第一二氧化硅层、第二五氧化二铌层、第二二氧化硅层及功能层，功能层含有聚四氟乙烯和CrN。第一五氧化二铌层厚度为18nm～28nm，第一二氧化硅层厚度为16nm～26nm、第二五氧化二铌层厚度为50nm～60nm、第二二氧化硅层厚度为89nm～99nm，功能层厚度为10nm～20nm。功能层的聚四氟乙烯与CrN的摩尔比为1:0.5～1:3。上述的保护膜，透射率高、硬度高，防油污和汗渍及防刮伤效果佳。 | ||
| 搜索关键词： | 保护膜 复合材料 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
1.一种保护膜，其特征在于，包括依次层叠的第一五氧化二铌层、第一二氧化硅层、第二五氧化二铌层、第二二氧化硅层及功能层，所述功能层含有聚四氟乙烯和CrN；所述第一五氧化二铌层厚度为18nm～28nm，所述第一二氧化硅层厚度为16nm～26nm、所述第二五氧化二铌层厚度为50nm～60nm、所述第二二氧化硅层厚度为89nm～99nm，所述功能层厚度为10nm～20nm。所述功能层的聚四氟乙烯与CrN的摩尔比为1:0.5～1:3。
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