[发明专利]一种提高水稻出苗率的处理方法在审
| 申请号： | 201711284727.7 | 申请日： | 2017-12-07 |
| 公开（公告）号： | CN108029277A | 公开（公告）日： | 2018-05-15 |
| 发明（设计）人： | 史建平 | 申请（专利权）人： | 湖州品创孵化器有限公司 |
| 主分类号： | A01C1/00 | 分类号： | A01C1/00;A01G22/22 |
| 代理公司： | 北京方圆嘉禾知识产权代理有限公司 11385 | 代理人： | 董芙蓉 |
| 地址： | 313000 浙江省湖州市经*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种提高水稻出苗率的处理方法，涉及水稻种植领域，该方法包括以下步骤：将颗粒饱满、无霉变、无破损的种子在温度为10～20℃下干燥至12～14%后，在温度为20～25℃的密闭条件下进行紫外线杀菌；将杀菌后的种子放入温度为25～32℃的催芽剂中进行催芽15～25h至破胸露白，催芽剂包括质量浓度为0.001～0.01%的氧化石墨烯；向催芽后的种子加入驱鸟剂，在温度为20～25℃的条件下播种生长3～7d后，将温度降低至15～20℃，并喷洒浓度为0.1～1.5%的生长抑制剂培养5～10d。本发明能够提高种子发芽率和出苗量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 提高 水稻 出苗率 处理 方法 | ||
【主权项】：
1.一种提高水稻出苗率的处理方法，其特征在于，包括以下步骤：S1、将颗粒饱满、无霉变、无破损的种子在温度为10～20℃下干燥至12～14%后，在温度为20～25℃的密闭条件下进行紫外线杀菌；S2、将杀菌后的种子放置在温度为25～32℃的催芽剂中进行催芽15～25h至破胸露白，所述催芽剂包括质量浓度为0.001～0.01%的氧化石墨烯；S3、向催芽后的种子加入驱鸟剂，在温度为20～25℃的条件下播种生长3～7d后，将温度降低至15～20℃，并喷洒浓度为0.1～1.5%的生长抑制剂培养5～10d。
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