[发明专利]一种钕铁硼磁体的电镀工艺

摘要

本发明公开了一种钕铁硼磁体的电镀工艺，由以下步骤组成：（1）烘烤：将钕铁硼磁体置于烘箱中烘烤；（2）打磨：用粗砂纸除去钕铁硼磁体表面的覆盖物，再用金相砂纸打磨表面至光滑；（3）清洗：通过酒精将钕铁硼磁体表面擦洗干净；（4）封孔：将钕铁硼磁体置于硬脂酸锌溶液中浸渍；（5）除油：通过超声波化学除油；（6）出光：将除油后的钕铁硼磁体材料进行出光处理；（7）浸镀：将出光后的磁体材料置于浸镀液中进行浸镀处理；（8）镀光亮镍：在浸镀层表面镀光亮镍，锌镍层厚度5~6μm。（9）干燥：通过压缩空气对磁体材料进行吹干。本发明大大提高磁体材料的抗蚀性。

主权项

1.一种钕铁硼磁体的电镀工艺，其特征在于：由以下步骤组成：（1）烘烤：将钕铁硼磁体置于180~200℃的烘箱中烘烤0.5~1h；（2）打磨：用粗砂纸除去钕铁硼磁体表面的覆盖物，再用金相砂纸打磨表面至光滑；（3）清洗：通过酒精将钕铁硼磁体表面擦洗干净；（4）封孔：将钕铁硼磁体置于硬脂酸锌溶液中，在150~175℃环境中浸渍15~20min；（5）除油：通过超声波化学除油，将封孔后的钕铁硼磁体置于除油溶液中，除油溶液为十二水磷酸三钠60~70g/L、碳酸钠45~55 g/L、氢氧化钠4~6 g/L、OP-10乳化剂0.5 g/L、柠檬酸30~40 g/L，在60~70℃温度条件下除油干净；（6）出光：将除油后的钕铁硼磁体材料置于10~20%硝酸溶液进行出光处理；（7）浸镀：将出光后的磁体材料置于浸镀液中进行浸镀处理，浸镀液为硫酸锌25~30 g/L、三水焦磷酸钾100~110 g/L、碳酸钠6~8 g/L、氟化钠4~6 g/L，在80℃温度条件下浸镀处理30s；（8）镀光亮镍：在浸镀层表面镀光亮镍，电镀液为七水硫酸镍200~300 g/L、六水氯化镍40~60 g/L、硼酸30~40 g/L、丁炔二醇0.3~0.5 g/L、十二烷基硫酸钠0.05~0.1 g/L，在温度45~55℃、电流密度2~4A/dm2条件下电镀，锌镍层厚度5~6μm；（9）干燥：通过压缩空气对磁体材料进行吹干，检验得成品。