[发明专利]一种透光性硬质氮化碳薄膜的制备方法有效

专利信息
申请号: 201711285578.6 申请日: 2017-12-07
公开(公告)号: CN108165952B 公开(公告)日: 2019-11-08
发明(设计)人: 姜礼华;彭宇;汪涛;肖婷;向鹏;谭新玉 申请(专利权)人: 三峡大学
主分类号: C23C16/34 分类号: C23C16/34;C23C16/513;C23C16/02;C23C16/56
代理公司: 宜昌市三峡专利事务所 42103 代理人: 成钢
地址: 443002*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种透光性硬质氮化碳薄膜的制备方法,该方法包括以下步骤:清洗玻璃基片;以甲烷为反应气体,采用等离子体增强化学气相沉积技术在玻璃基片表面沉积一层非晶碳薄膜;采用等离子体增强化学气相沉积技术对玻璃基片表面沉积的非晶碳薄膜进行氨气等离子体处理;以甲烷和氨气为反应气体,采用等离子体增强化学气相沉积技术在氨气等离子体处理后的非晶碳表面沉积一层氮化碳薄膜;在高纯氮气气氛中低温热处理氮化碳薄膜。该方法通过修饰玻璃基片表面化学键、优化氮化碳薄膜中氮原子和氢原子含量以及在氮气氛围中采用低温热处理的方法调整薄膜内应力,从而使氮化碳薄膜具有良好的硬度和透光性。
搜索关键词: 氮化碳薄膜 等离子体增强化学气相沉积 玻璃基片表面 透光性 氨气等离子体处理 非晶碳薄膜 反应气体 甲烷 硬质 沉积 制备 氨气 低温热处理 化学键 热处理 表面沉积 玻璃基片 氮气氛围 方法调整 高纯氮气 氮原子 非晶碳 氢原子 中低温 薄膜 修饰 清洗 优化
【主权项】:
1.一种透光性硬质氮化碳薄膜的制备方法,其特征在于,该方法包括下述步骤:(1)清洗玻璃基片;(2)以高纯甲烷为工作气体,采用等离子体增强化学气相沉积方法在玻璃基片表面沉积一层非晶碳薄膜,其工艺参数是:射频功率300~400W,射频频率10‑15MHz,基片温度380~450℃,腔体压强80~120Pa,高纯甲烷气体流量60~90sccm,镀膜时间15~25秒,薄膜厚度为5~12纳米;(3)以高纯氨气为工作气体,采用等离子体增强化学气相沉积方法对玻璃基片表面的非晶碳薄膜进行氨气等离子体处理,氨气等离子体处理玻璃基片表面非晶碳薄膜的工艺参数是:射频功率200~300W,射频频率13.56MHz,基片温度380~450℃,腔体压强100~160Pa,高纯氨气气体流量40~70sccm,氨气等离子体处理时间10~20分钟;(4)以高纯甲烷和高纯氨气为反应气体,采用等离子体增强化学气相沉积方法在步骤(3)中氨气等离子体处理后的非晶碳薄膜表面制备一层氮化碳薄膜;(5)在高纯氮气气氛中对步骤(4)中所制备的氮化碳薄膜进行低温热处理。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三峡大学,未经三峡大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201711285578.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top