[发明专利]一种硅材料清洗装置

摘要

本发明公开了一种硅材料清洗装置，所述硅材料清洗装置的主体结构设计为清洗槽，所述清洗槽的顶部放置有清洗槽盖，所述清洗槽内安装有清洗滚筒，所述清洗滚筒内部安装有清洗刷，所述清洗滚筒由驱动电机提供动力，所述驱动电机的右侧安装有调速装置，所述调速装置与清洗槽之间安装有连接轴承，所述清洗槽的底部安装有超声波发生器，本发明设计的硅材料清洗装置能够有效地清洗硅材料表面的杂质，反应平稳，基本不产生热量，不发生氧化反应，避免因氧化而对硅材料产生污染，提高了硅材料的质量；稀氢氟酸不与硅发生反应，降低了硅材料的损耗率；酸用量较少，大大降低了硅材料清洗的成本，有效节约了能源，具有广阔的市场潜力，能够市场的满足要求。

主权项

1.一种硅材料清洗装置，其特征在于：所述硅材料清洗装置的主体结构设计为清洗槽(1)，所述清洗槽(1)的顶部放置有清洗槽盖(2)，所述清洗槽(1)内安装有清洗滚筒(3)，所述清洗滚筒(3)内部安装有清洗刷(5)，所述清洗滚筒(3)由驱动电机(6)提供动力，所述驱动电机(6)的右侧安装有调速装置(7)，所述调速装置(7)与清洗槽(1)之间安装有连接轴承(8)，所述清洗槽(1)的底部安装有超声波发生器(4)，所述清洗槽(1)的右侧中下部设置有出水管(9)，所述清洗槽(1)右侧顶部设置有进水管(11)，所述进水管(11)在清洗槽(1)内部的一段上安装有喷淋装置(10)。