[发明专利]多层膜用蚀刻液组合物、蚀刻方法及阵列基板的制造方法有效
| 申请号： | 201711286762.2 | 申请日： | 2017-12-07 |
| 公开（公告）号： | CN108220963B | 公开（公告）日： | 2020-04-10 |
| 发明（设计）人： | 刘仁浩;金范洙;南基龙 | 申请（专利权）人： | 东友精细化工有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/16 | 分类号： | C23F1/16;C23F1/20;C23F1/26;C23F1/18;H01L21/3213 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 金鲜英;宋海花 |
| 地址： | 韩国全*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供多层膜用蚀刻液组合物、蚀刻方法及阵列基板的制造方法。该多层膜用蚀刻液组合物，包含：A)过硫酸盐0.5重量％～20.0重量％；B)氟化合物0.01重量％～2.0重量％；C)无机酸10.0重量％～15.0重量％；D)有机酸10.0～30.0重量％；E)有机酸盐0.1重量％～10.0重量％；F)环状胺化合物0.1重量％～5.0重量％；G)氨基磺酸0.1重量％～6.0重量％；H)甘氨酸0.1重量％～5.0重量％；和I)余量的水。根据本发明的多层膜用蚀刻液组合物，能够缩短整体工序时间且降低成本。 | ||
| 搜索关键词： | 多层 蚀刻 组合 方法 阵列 制造 | ||
【主权项】：
1.一种多层膜用蚀刻液组合物，包含：A)过硫酸盐0.5重量％～20.0重量％；B)氟化合物0.01重量％～2.0重量％；C)无机酸10.0重量％～15.0重量％；D)有机酸10.0～30.0重量％；E)有机酸盐0.1重量％～10.0重量％；F)环状胺化合物0.1重量％～5.0重量％；G)氨基磺酸0.1重量％～6.0重量％；H)甘氨酸0.1重量％～5.0重量％；和I)余量的水。
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