[发明专利]一种基于3D打印快速在基体上制备超疏水表面方法有效
| 申请号： | 201711289415.5 | 申请日： | 2017-12-07 |
| 公开（公告）号： | CN108099185B | 公开（公告）日： | 2020-11-13 |
| 发明（设计）人： | 张海龙 | 申请（专利权）人： | 浙江海洋大学 |
| 主分类号： | B29C64/165 | 分类号： | B29C64/165;B33Y10/00;C09J133/12;C09J11/06;C09J11/04;C08F120/14;C08F2/44 |
| 代理公司： | 杭州杭诚专利事务所有限公司 33109 | 代理人： | 尉伟敏 |
| 地址： | 316022 浙江省*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明涉及3D打印技术领域，公开了一种基于3D打印快速在基体上制备超疏水表面方法。该制备方法包括以下步骤：（1）用绘图软件绘制几何点阵阵列表面，得到二维几何结构模型图；（2）取一基体，使用乙醇的水溶将基体表面液清洗干净，自然晾干，得到洁净干燥的基体表面，然后在基体表面均匀涂覆一层胶粘剂基膜，自然晾干；（3）将打印原料装入打印机中，再将步骤（1）中的二维结构模型图导入3D打印机；（4）将基体置于打印平台，利用3D打印平台上的打印喷头在胶粘剂基膜上喷射原料形成二维几何点阵阵列。本发明超疏水基体表面具有较好的超疏水性能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 打印 快速 基体 制备 疏水 表面 方法 | ||
【主权项】：
1.一种基于3D打印快速在基体上制备超疏水表面方法，其特征在于，包括以下步骤：（1）用绘图软件绘制几何点阵阵列表面，得到二维几何结构模型图；（2）取一基体，使用乙醇的水溶将基体表面液清洗干净，自然晾干，得到洁净干燥的基体表面，然后在基体表面均匀涂覆一层胶粘剂作为基膜；（3）将打印原料装入打印机中，再将步骤（1）中的二维结构模型图导入3D打印机；（4）将基体置于打印平台，利用3D打印平台上的打印喷头在胶粘剂基膜上喷射原料形成二维几何点阵阵列。
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