[发明专利]一种单面双电极和一种电响应材料表面构型的方法在审

专利信息
申请号: 201711292552.4 申请日: 2017-12-08
公开(公告)号: CN108089380A 公开(公告)日: 2018-05-29
发明(设计)人: 李皓;李德彦;廖经纶;赵威;周国富 申请(专利权)人: 华南师范大学;深圳市国华光电科技有限公司;深圳市国华光电研究院
主分类号: G02F1/1343 分类号: G02F1/1343;G02F1/137
代理公司: 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 代理人: 唐致明
地址: 510006 广东省广州市番禺区外*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种单面双电极和一种电响应材料表面构型的方法,本发明的单面双电极具有非矩形的刻痕,能够在提高电场强度的同时,增加电场区域的数量,还能够增加导电材料的利用率。在本发明的单面双电极上涂覆需要观察电场响应的材料,结合特殊刻痕的设计,能够表现出样品的响应与刻痕一一对应,能够更好地观察电响应样品在电场中的响应效果。
搜索关键词: 双电极 刻痕 电响应材料 表面构型 电场 导电材料 电场区域 电场响应 电响应 非矩形 响应 观察 涂覆 表现
【主权项】:
1.一种单面双电极,其特征在于,包括导电材料,所述导电材料上具有刻痕,所述刻痕的形状为自由曲线,所述刻痕将所述导电材料分隔为两部分。
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