[发明专利]坩埚及蒸镀装置有效
| 申请号： | 201711295082.7 | 申请日： | 2017-12-08 |
| 公开（公告）号： | CN107794500B | 公开（公告）日： | 2019-10-25 |
| 发明（设计）人： | 吴新风;王欣竹;胡友元;李菲;栾梦雨;李慧慧;赵程鹏 | 申请（专利权）人： | 合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人： | 滕一斌 |
| 地址： | 230012 *** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种坩埚及蒸镀装置，属于蒸镀技术领域。所述坩埚包括：坩埚本体和坩埚盖，坩埚本体上设置有出口，坩埚盖覆盖出口；坩埚盖包括：弹性圈，弹性圈上的中空部分连通出口，中空部分靠近坩埚本体一端的开口面积大于远离坩埚本体一端的开口面积。本发明解决了在沉积物会堵塞蒸发孔而导致基板上形成厚度不均匀的膜层，从而容易影响膜层品质的问题。本发明用于蒸镀膜层。 | ||
| 搜索关键词： | 坩埚本体 坩埚盖 坩埚 蒸镀装置 弹性圈 中空 膜层 沉积物 开口 出口 蒸镀膜层 不均匀 蒸发孔 基板 蒸镀 连通 堵塞 覆盖 | ||
【主权项】：
1.一种坩埚，其特征在于，所述坩埚包括：坩埚本体和坩埚盖，所述坩埚本体上设置有出口，所述坩埚盖覆盖所述出口；所述坩埚盖包括：弹性圈，所述弹性圈上的中空部分连通所述出口，所述中空部分靠近所述坩埚本体一端的开口面积大于远离所述坩埚本体一端的开口面积。
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