[发明专利]光致抗蚀剂组合物以及使用其形成精细图案的方法有效
| 申请号： | 201711297243.6 | 申请日： | 2017-12-08 |
| 公开（公告）号： | CN108181787B | 公开（公告）日： | 2023-06-30 |
| 发明（设计）人： | 朴珍;金贤友 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F1/76;G03F7/11 |
| 代理公司： | 华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 刘培培;黄隶凡 |
| 地址： | 韩国京畿道水*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
一种光致抗蚀剂组合物包含感光性聚合物以及光酸产生剂，所述感光性聚合物包含聚合物链及偶合到所述聚合物链的至少一个第一官能团。所述第一官能团具有由以下化学式1表示的结构，[化学式1] |
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| 搜索关键词： | 光致抗蚀剂 组合 以及 使用 形成 精细 图案 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光致抗蚀剂组合物，其特征在于，包括：感光性聚合物，包含聚合物链及偶合到所述聚合物链的至少一个第一官能团；以及光酸产生剂，其中所述第一官能团具有由以下化学式1或以下化学式1‑1表示的结构，[化学式1]![]()
[化学式1‑1]![]()
其中R1为碳数为1至20的烷基及碳数为1至20的芳基中的一个，且R2为‑H、‑F、‑Cl、‑Br、碳数为1至20的烷基及碳数为1至20的芳基中的一个，R5为碳数为1至20的烷基及碳数为1至20的芳基中的一个，且X为‑H、‑F、‑Cl、‑Br、‑I、‑NH2、‑OH及卤化物中的一个。
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