[发明专利]掩膜板及其制作方法

摘要

本发明涉及一种掩膜板及其制作方法，方法包括：制备具有像素定义层的衬底基板，像素定义层包括多个像素图案；检测衬底基板的像素定义层的各像素图案的位置，获得各像素图案的第一坐标值，记录第一坐标值；检测放置于掩膜框架上的掩膜基板的图案开口的位置，获得各图案开口的第二坐标值；根据第一坐标值对图案开口的位置进行调整，使得第二坐标值与第一坐标值匹配。通过直接检测衬底基板的像素图案的位置，获得衬底基板的像素图案的坐标值，根据像素图案的坐标值对掩膜基板的图案开口的位置进行调整，使得掩膜基板与衬底基板之间的误差更小，进而使得掩膜板精度更高，通过该掩膜板进行蒸镀的效果更佳。

主权项

1.一种掩膜板的制作方法，其特征在于，包括：制备具有像素定义层的衬底基板，所述像素定义层包括多个均匀分布的像素图案；检测所述衬底基板的像素定义层的各所述像素图案的位置，获得各所述像素图案的第一坐标值，记录所述第一坐标值；检测放置于掩膜框架上的掩膜基板的图案开口的位置，获得各所述图案开口的第二坐标值；根据所述第一坐标值对所述图案开口的位置进行调整，使得所述第二坐标值与所述第一坐标值匹配。