[发明专利]一种研钵装置及研磨方法在审
申请号: | 201711298315.9 | 申请日: | 2017-12-08 |
公开(公告)号: | CN108212436A | 公开(公告)日: | 2018-06-29 |
发明(设计)人: | 杨靖;樊旺青 | 申请(专利权)人: | 西安工程大学 |
主分类号: | B02C19/08 | 分类号: | B02C19/08;B02C23/04;B02C23/00 |
代理公司: | 西安弘理专利事务所 61214 | 代理人: | 谈耀文 |
地址: | 710048 *** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明公开了一种研钵装置,包括中空且上端开口的钵体,钵体的开口处设置有尖嘴内口,尖嘴内口一直向外延伸形成尖嘴口,钵体开口上设置有钵盖,钵盖外侧一周设置有盖檐,盖檐与钵体的开口内侧接触,钵盖中心设置有穿孔,穿孔内穿插设置有钵杵,钵杵靠近钵体底端的一侧设置有杵头,穿孔上设置有穿孔盖,穿孔盖与穿孔相配套,穿孔盖上设置有穿孔盖柄。本发明还公开了一种研钵装置的研磨方法,样品从穿孔或钵体开口处倒入、研磨、盖上穿孔盖,通过尖嘴口转移至储样器。钵体上的尖嘴口使得样品可方便快捷地从钵体转移至储样器内,可有效避免样品被污染,同时有效地避免了粉体样品在研磨时会悬浮于空气中,被操作者吸入体内的问题。 | ||
搜索关键词: | 穿孔 钵体 尖嘴 研磨 钵盖 研钵 储样器 开口处 盖檐 内口 开口 穿插设置 粉体样品 上端开口 中心设置 上穿孔 有效地 盖柄 吸入 中空 杵头 悬浮 体内 延伸 配套 污染 | ||
【主权项】:
1.一种研钵装置,包括中空且上端开口的钵体(1),钵体(1)的开口处设置有尖嘴内口(2),所述尖嘴内口(2)一直向外延伸形成尖嘴口(3),钵体(1)开口上设置有钵盖(4),所述钵盖(4)外侧一周设置有盖檐(6),所述盖檐(6)与钵体(1)的开口内侧紧密接触,钵盖(4)中心设置有穿孔(5),所述穿孔(5)内穿插设置有钵杵(8),所述钵杵(8)靠近钵体(1)底端的一侧设置有杵头(9),所述穿孔(5)上设置有穿孔盖(10),穿孔盖(10)与穿孔(5)相配套,穿孔盖(10)上设置有穿孔盖柄(11)。
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